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Productos
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Grafito recubierto de carbono de silicio ICP
El grafito recubierto de carbono de silicio ICP de Semicorex es la opción ideal para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto cuenta con una resistencia superior al calor y la corrosión, uniformidad térmica uniforme y patrones de flujo de gas laminar óptimos.
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Sistema de grabado con plasma ICP para proceso PSS
Elija el sistema de grabado por plasma ICP de Semicorex para procesos PSS para procesos de epitaxia y MOCVD de alta calidad. Nuestro producto está diseñado específicamente para estos procesos y ofrece una resistencia superior al calor y la corrosión. Con una superficie limpia y lisa, nuestro transportador es perfecto para manipular obleas impecables.
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Placa de grabado por plasma ICP
La placa de grabado por plasma ICP de Semicorex proporciona una resistencia superior al calor y la corrosión para la manipulación de obleas y los procesos de deposición de películas delgadas. Nuestro producto está diseñado para soportar altas temperaturas y limpieza química agresiva, lo que garantiza durabilidad y longevidad. Con una superficie limpia y lisa, nuestro transportador es perfecto para manipular obleas impecables.
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Portador de grabado ICP de carburo de silicio
¿Busca un soporte de obleas fiable para procesos de grabado? No busque más, el portador de grabado ICP de carburo de silicio de Semicorex. Nuestro producto está diseñado para soportar altas temperaturas y limpieza química agresiva, lo que garantiza durabilidad y longevidad. Con una superficie limpia y lisa, nuestro transportador es perfecto para manipular obleas impecables.
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Placa de SiC para proceso de grabado ICP
La placa de SiC de Semicorex para el proceso de grabado ICP es la solución perfecta para requisitos de procesamiento de productos químicos agresivos y de alta temperatura en la deposición de películas delgadas y el manejo de obleas. Nuestro producto cuenta con una resistencia al calor superior y una uniformidad térmica uniforme, lo que garantiza un espesor y una resistencia constantes de la capa de epi. Con una superficie limpia y lisa, nuestro recubrimiento de cristal de SiC de alta pureza proporciona un manejo óptimo para obleas impecables.
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Portador de grabado ICP recubierto de SiC
Portador de grabado ICP recubierto de SiC Semicorex diseñado específicamente para equipos de epitaxia con alta resistencia al calor y a la corrosión en China. Nuestros productos tienen una buena ventaja de precio y cubren muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
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