Cuando los ingenieros y los equipos de adquisiciones buscan componentes que puedan sobrevivir a las duras condiciones del proceso, el problema real rara vez es un único modo de falla.
Leer másLa tecnología de proceso de SiC por deposición química de vapor (CVD) es esencial para la fabricación de productos electrónicos de potencia de alto rendimiento, lo que permite el crecimiento epitaxial preciso de capas de carburo de silicio de alta pureza sobre obleas de sustrato. Al aprovechar la am......
Leer másEn el proceso de deposición química de vapor (CVD), los gases utilizados incluyen principalmente gases reactivos y gases portadores. Los gases reactivos proporcionan átomos o moléculas para el material depositado, mientras que los gases portadores se utilizan para diluir y controlar el entorno de re......
Leer másLos diferentes escenarios de aplicación tienen diferentes requisitos de rendimiento para los productos de grafito, lo que hace que la selección precisa del material sea un paso fundamental en la aplicación de productos de grafito. La elección de componentes de grafito con un rendimiento que coincida......
Leer másAntes de analizar la tecnología del proceso de deposición química de vapor (CVD) de carburo de silicio (Sic), primero revisemos algunos conocimientos básicos sobre la "deposición química de vapor". La deposición química de vapor (CVD) es una técnica comúnmente utilizada para preparar diversos rec......
Leer másEl campo térmico de crecimiento del monocristal es la distribución espacial de la temperatura dentro del horno de alta temperatura durante el proceso de crecimiento del monocristal, que afecta directamente la calidad, la tasa de crecimiento y la tasa de formación de cristales del monocristal. El cam......
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