Los susceptores de barril son un componente crítico utilizado en diversos procesos de fabricación de semiconductores, como LPE, MOCVD. Semicorex aplica carburo de silicio de alta pureza en capas delgadas sobre el grafito mediante el proceso de deposición química de vapor (CVD), lo que hace que el material sea de grado semiconductor con excelente estabilidad térmica, resistencia química y resistencia al desgaste, lo que los hace ideales para su uso en alta- procesos de temperatura.
● Grafito recubierto de SiC de alta pureza
● Resistencia superior al calor y resistencia química
● Alta uniformidad térmica
● Excelente resistencia al desgaste
El susceptor de barril recubierto de SiC CVD Semicorex es un componente meticulosamente diseñado diseñado para procesos avanzados de fabricación de semiconductores, particularmente epitaxia. Nuestros productos tienen una buena ventaja de precio y cubren la mayoría de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Leer másEnviar ConsultaEl grafito recubierto de carburo de silicio Semicorex Barrel Susceptor es un componente especializado diseñado para su uso en el proceso de epitaxia, particularmente en el transporte de obleas. Contáctenos hoy para obtener más información sobre cómo podemos ayudarlo con sus necesidades de procesamiento de obleas semiconductoras.
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor de barril recubierto de SiC Semicorex para crecimiento epitaxial de LPE es un producto de alto rendimiento diseñado para proporcionar un rendimiento consistente y confiable durante un período prolongado. Su perfil térmico uniforme, su patrón de flujo de gas laminar y su prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de capas epitaxiales de alta calidad en chips de obleas. Su personalización y rentabilidad lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex Barrel Susceptor Epi System es un producto de alta calidad que ofrece una adhesión de recubrimiento superior, alta pureza y resistencia a la oxidación a altas temperaturas. Su perfil térmico uniforme, su patrón de flujo de gas laminar y su prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de capas epixiales en chips de obleas. Su rentabilidad y personalización lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
Leer másEnviar ConsultaEl sistema de reactor de epitaxia en fase líquida (LPE) Semicorex es un producto innovador que ofrece un rendimiento térmico excelente, un perfil térmico uniforme y una adhesión de recubrimiento superior. Su alta pureza, resistencia a la oxidación a altas temperaturas y a la corrosión lo convierten en una opción ideal para su uso en la industria de semiconductores. Sus opciones de personalización y su rentabilidad lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor es un producto altamente duradero y confiable para el crecimiento de capas epixiales en chips de obleas. Su resistencia a la oxidación a altas temperaturas y su alta pureza lo hacen adecuado para su uso en la industria de semiconductores. Su perfil térmico uniforme, su patrón de flujo de gas laminar y su prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de la capa epixial de alta calidad.
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