China Horno CVD Fabricantes, Proveedores, Fábrica

Hornos CVD utilizados para el proceso de deposición química de vapor (CVD). La deposición química de vapor es un proceso en el que se deposita una película delgada sobre un sustrato mediante una reacción química entre los gases precursores vaporizados y una superficie calentada.

Los hornos de CVD suelen constar de una cámara de vacío, un sistema de suministro de gas, un sistema de calentamiento y un soporte de sustrato. La cámara de vacío se utiliza para eliminar el aire y otros gases del entorno de deposición para evitar que las impurezas interfieran con el proceso de deposición. El sistema de suministro de gas envía los gases precursores a la superficie del sustrato donde reaccionan para formar la película delgada deseada. El sistema de calentamiento calienta el sustrato a la temperatura requerida para que ocurra la reacción. El soporte del sustrato se usa para mantener el sustrato en su lugar durante el proceso de deposición.

En el proceso de CVD, los gases precursores se introducen en la cámara de vacío y se calientan a una temperatura en la que se descomponen y reaccionan para formar una película delgada sobre el sustrato calentado. La temperatura y la presión del entorno de deposición se controlan cuidadosamente para garantizar que se alcancen las propiedades deseadas de la película.

Los hornos de CVD se utilizan ampliamente en la industria de los semiconductores para depositar películas delgadas para la fabricación de dispositivos microelectrónicos, como circuitos integrados y celdas solares. También se utilizan en la producción de materiales avanzados, como revestimientos, fibras ópticas y superconductores.