<?xml version="1.0" encoding="utf-8"?><rss version="2.0"><channel><title><![CDATA[Semicorex tecnología de materiales avanzados Co., Ltd.]]></title><category><![CDATA[Semicorex tecnología de materiales avanzados Co., Ltd.]]></category><description><![CDATA[Semicorex es uno de los principales fabricantes y proveedores en China, que se especializa en la producción de componentes semiconductores, cerámicos de carburo de silicio recubiertos de carburo de silicio, etc. Podemos brindar a los clientes garantía de calidad rápidamente. Puede estar seguro de comprar los productos de nuestra fábrica y le ofreceremos el mejor servicio postventa y entrega oportuna.]]></description><link><![CDATA[https://es.semicorex.com]]></link><language>es</language><pubDate>3/9/2026 4:07:55 AM</pubDate><lastBuildDate>3/9/2026 4:07:55 AM</lastBuildDate><item><title><![CDATA[¿Qué es un semiconductor?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-03-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cómo clasificar los semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-03-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la epitaxia de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el proceso de oblea epitaxial?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Para qué se utilizan las obleas epitaxiales?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es un sistema MOCVD?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-15.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es la ventaja del carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-17.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La escasez de chips sigue siendo un problema]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-18.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Japón restringió recientemente las exportaciones de 23 tipos de equipos de fabricación de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-424.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso CVD para epitaxia de obleas de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-425.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[China sigue siendo el mayor mercado de equipos de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-426.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Discutiendo el horno CVD]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-427.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Escenarios de aplicación para capas epitaxiales]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-428.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[TSMC: Producción de prueba de riesgo de proceso de 2nm el próximo año]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-429.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fondos en proyectos de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-430.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[MOCVD es el equipo clave]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-431.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Crecimiento sustancial del mercado de susceptores de grafito recubiertos de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-432.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es el proceso de SiC epitaxial?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-434.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué elegir susceptores de grafito recubiertos de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-435.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es una oblea de SiC tipo P?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-439.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Diferentes tipos de cerámica SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-442.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Los chips de memoria coreanos se desplomaron]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-447.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es SOI?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-450.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Conociendo el Cantilever Paddle]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-455.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es CVD para SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-462.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[PSMC de Taiwán construirá una fábrica de obleas de 300 mm en Japón]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-473.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Semicorex anuncia oblea epitaxial SiC de 8 pulgadas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-483.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Comienza la producción de oblea 3C-SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1358.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Acerca de los elementos calefactores de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1359.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicaciones industriales de GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1360.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Descripción general del desarrollo de la industria fotovoltaica]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1586.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el proceso CVD en semiconductores?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1587.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Recubrimiento TaC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1588.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la epitaxia en fase líquida?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1589.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué elegir el método de epitaxia en fase líquida?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1590.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sobre defectos en cristales de SiC - Micropipe]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1591.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dislocación en cristales de SiC.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1592.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Grabado en seco versus grabado en húmedo]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1593.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Epitaxia de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-1594.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el grafito isostático?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2002.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es el proceso de fabricación de grafito isostático?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2007.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué son las paletas voladizas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2010.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el horno de difusión?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2013.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué son los susceptores de grafito recubiertos de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2017.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo fabricar varillas de grafito?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2021.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el grafito poroso?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2024.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Recubrimientos de carburo de tantalio en la industria de semiconductores.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2026.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Equipo LPE]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2028.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Crisol con revestimiento de TaC para el crecimiento de cristales de AlN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2053.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Métodos de crecimiento de cristales de AlN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2056.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Recubrimiento TaC con método CVD]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2100.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[El impacto de la temperatura en los recubrimientos CVD-SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2106.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Elementos calefactores de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2111.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el cuarzo?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2118.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Productos de cuarzo en aplicaciones de semiconductores.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2124.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el compuesto C/C?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2131.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Lanzamiento de productos epitaxiales GaN HEMT de alta potencia de 850 V]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2137.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Introducción al transporte físico de vapor (PVT)]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2144.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el grafito isostático?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2151.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[3 métodos de moldeado de grafito]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2977.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-12-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Grafito poroso para el crecimiento de cristales de SiC de alta calidad mediante el método PVT]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2978.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-12-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Presentamos la tecnología central del barco de grafito.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-2979.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-12-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Recubrimiento en el campo térmico de monocristales semiconductores de silicio.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3124.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es grafitizar?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3125.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Introducción de óxido de galio (Ga2O3)]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3224.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicaciones de la oblea de óxido de galio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3225.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ventajas y desventajas de las aplicaciones de nitruro de galio (GaN)]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3322.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-02-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[GaN frente a SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3323.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-02-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Puedes moler carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3451.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el carburo de silicio (SiC)?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3452.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Industria del carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3453.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son los desafíos de la producción de sustratos de carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3454.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el susceptor de grafito recubierto de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3455.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Material de aislamiento de campo térmico.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3664.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es un recubrimiento de TaC sobre grafito?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3665.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Diferencias entre cristales de SiC con diferentes estructuras.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3668.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La primera empresa de industrialización de sustrato de óxido de galio de 6 pulgadas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3670.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso de corte y molienda de sustrato]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3673.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicaciones de componentes de grafito recubiertos de TaC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3675.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Conociendo el MOCVD]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-3678.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La importancia de los materiales porosos de grafito para el crecimiento de cristales de SiC.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4026.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Control de dopaje en el crecimiento de SiC por sublimación]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4027.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ventajas del SiC en la industria de los vehículos eléctricos]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4138.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Capas y sustratos epitaxiales de silicio en la fabricación de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4143.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[El auge y las perspectivas del mercado de dispositivos de energía de carburo de silicio (SiC)]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4149.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Procesos de plasma en operaciones CVD]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4151.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Conociendo GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4346.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[El papel crucial de las capas epitaxiales en los dispositivos semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4347.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Grafito poroso para el crecimiento de cristales de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4348.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Capas epitaxiales: la base de los dispositivos semiconductores avanzados]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4349.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Método para preparar polvo de SiC.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4523.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Introducción al proceso de implantación y recocido de iones de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4528.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es un barco de SiC y cuáles son sus distintos procesos de fabricación?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4537.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicaciones de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4552.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Desafíos de aplicación y desarrollo de componentes de grafito recubiertos de TaC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4558.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Horno de crecimiento de cristales de carburo de silicio (SiC)]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4582.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Parámetros clave de los sustratos de carburo de silicio (SiC)]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4588.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Pasos principales en el procesamiento de sustratos de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4601.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sustrato versus epitaxia: funciones clave en la fabricación de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4609.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Introducción a los semiconductores de tercera generación: GaN y tecnologías epitaxiales relacionadas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4629.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dificultades en la preparación de GaN.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4642.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Una breve historia del carburo de silicio y aplicaciones de los recubrimientos de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4648.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tecnología de epitaxia de oblea de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-4666.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Introducción a los dispositivos de potencia de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5187.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ventajas de la cerámica de carburo de silicio en la industria de la fibra óptica]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5188.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Comprensión de la tecnología de grabado en seco en la industria de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5189.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sustrato de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5364.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dificultad para preparar sustratos de SiC.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5365.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Comprensión del proceso completo de fabricación de dispositivos semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5366.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Diversas aplicaciones del cuarzo en la fabricación de semiconductores.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5367.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Desafíos de la tecnología de implantación de iones en dispositivos de energía de SiC y GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5368.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso de difusión e implante de iones]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5369.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Material central para el crecimiento de SiC: revestimiento de carburo de tantalio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5642.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son las ventajas y desventajas del grabado en seco y en húmedo?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5649.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el proceso CMP?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5658.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cómo hacer el proceso CMP]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5665.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué no crece la epitaxia de nitruro de glio (GaN) en un sustrato de GaN?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5677.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso de oxidación]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5685.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Crecimiento epitaxial sin defectos y dislocaciones inadaptadas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5693.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Semiconductores de cuarta generación Óxido de galio/β-Ga2O3]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5704.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicación de SiC y GaN en vehículos eléctricos.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5715.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[El papel fundamental de los sustratos de SiC y el crecimiento de los cristales en la industria de los semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5725.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Flujo del proceso central de sustrato de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5740.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es la diferencia entre obleas epitaxiales y difusas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5747.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Obleas epitaxiales de nitruro de galio: una introducción al proceso de fabricación]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5761.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Corte de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5774.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Barcos de SiC frente a barcos de cuarzo: uso actual y tendencias futuras en la fabricación de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5779.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Oblea de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5795.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Comprensión de la deposición química de vapor (CVD): una descripción general completa]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5802.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sustrato y Epitaxia]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5816.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Silicio monocristalino versus silicio policristalino]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5823.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[SiC grueso CVD de alta pureza: conocimientos sobre procesos para el crecimiento de materiales]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5834.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Heteroepitaxia de 3C-SiC: descripción general]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5850.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso de crecimiento de película delgada.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5863.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Desmitificando la tecnología de mandril electrostático (ESC) en el manejo de obleas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5870.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el grado de grafitización?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5886.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cerámicas de carburo de silicio y sus diversos procesos de fabricación]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5898.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cerámica SiC: el material indispensable para componentes de alta precisión en la fabricación de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5918.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cristal único de GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5925.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cuarzo de alta pureza: un material indispensable para la industria de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5943.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Método de crecimiento de cristales de GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-5952.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tecnología de purificación de grafito en semiconductores de SiC.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7077.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Desafíos técnicos en los hornos de crecimiento de cristales de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7084.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Una revisión de nueve técnicas de sinterización para cerámicas de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7104.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué aplicaciones tiene el sustrato de nitruro de galio (GaN)?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7115.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Progreso de la investigación de recubrimientos TaC en superficies de materiales a base de carbono]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7124.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tecnología de producción de grafito isostático]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7133.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el campo térmico?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7144.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[GaN y SiC: ¿coexistencia o sustitución?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7153.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el mandril electrostático (ESC)?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7165.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Técnicas de preparación especializadas para cerámicas de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7173.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Comprender las diferencias de grabado entre obleas de silicio y carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7686.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el nitruro de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7687.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué elegir la sinterización sin presión para la preparación de cerámica de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7688.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Análisis de las aplicaciones y perspectivas de desarrollo de la cerámica de SiC en los sectores de semiconductores y fotovoltaico]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7689.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Oxidación en el procesamiento de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7690.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fabricación de silicio monocristalino]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7691.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Infineon presenta la primera oblea Power GaN de 300 mm del mundo]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7692.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el sistema de horno de crecimiento cristalino?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7693.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[El estudio sobre la distribución de la resistividad eléctrica en cristales de 4H-SiC tipo n]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7694.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo se aplica la cerámica de carburo de silicio y cuál es su futuro en cuanto a resistencia al desgaste y a las altas temperaturas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7695.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Por qué utilizar la limpieza ultrasónica en la fabricación de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7696.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[El estudio sobre cerámicas de SiC sinterizadas por reacción y sus propiedades]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7697.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el recocido térmico?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7698.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Lograr un crecimiento de cristales de SiC de alta calidad mediante el control del gradiente de temperatura en la fase de crecimiento inicial]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-7699.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fabricación de chips: procesos de película delgada]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8350.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo se producen realmente los mandriles electrostáticos de cerámica?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8351.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Procesos de recocido en la fabricación moderna de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8352.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué existe una creciente demanda de cerámicas de SiC de alta conductividad térmica en la industria de semiconductores?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8353.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Introducción del material de silicona]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8354.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Procesamiento de sustrato monocristalino de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8355.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Orientación de los cristales y defectos en las obleas de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8356.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Pulido de superficies de obleas de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8357.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[El defecto fatal del GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8358.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Pulido final de la superficie de la oblea de silicio.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-8359.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo se fabrica el carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9067.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wolfspeed detiene los planes de construcción de una planta alemana de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9068.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La estructura del mandril electrostático (ESC)]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9069.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el grabado con plasma a baja temperatura?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9070.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Homoepitaxia y heteroepitaxia explicadas de forma sencilla]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9071.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Susceptores recubiertos de SiC en procesos MOCVD]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9072.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicación de compuesto de fibra de carbono.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9073.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tecnología Semicorex para grafito especial]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9074.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Explorando las perspectivas futuras de los chips semiconductores de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9075.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son las aplicaciones de los recubrimientos de SiC y TaC en el campo de los semiconductores?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9076.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[SK Siltron amplía su producción de obleas de SiC con un préstamo de 544 millones de dólares del Departamento de Energía de EE. UU.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9077.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicación de GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9078.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la oblea ficticia?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9079.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Detección de defectos en el procesamiento de obleas de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9080.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso PECVD]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9081.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso de dopaje de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9082.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La fusión de la IA y la física: innovación tecnológica CVD detrás del Premio Nobel]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9083.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Parámetros del proceso de grabado]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9084.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es la diferencia entre grafitización y carbonización?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9085.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Casi 840 millones de dólares: Onsemi adquiere una empresa de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9086.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sintetización de polvo de carburo de silicio de alta pureza]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9087.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La unidad en semiconductores: Angstrom]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9088.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[SiGe en la fabricación de chips: un informe de noticias profesional]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9089.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tecnología de grabado selectivo SiGe y Si]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9090.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Crecimiento de cristales de AlN por método PVT.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9091.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Materiales de carbono porosos jerárquicos: síntesis e introducción]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9092.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Recocido]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9093.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la tecnología de implantación de iones semiconductores?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9094.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es una oblea ficticia?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9095.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué desafíos implica la fabricación de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9096.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fabricación de obleas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9097.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[método czochralski]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9098.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Las perspectivas de aplicación de los sustratos de carburo de silicio de 12 pulgadas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9099.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicaciones del carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-9100.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ventajas del recubrimiento de TAC en el crecimiento de un solo cristal de SIC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10533.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cómo los materiales avanzados resuelven 3 desafíos críticos en el diseño del horno de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10534.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-02-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son las aplicaciones de las membranas cerámicas de carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10535.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-02-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Silicio intrínseco]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10536.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-02-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Membrana cerámica de carburo de silicio: una nueva membrana de separación que se espera que reemplace varias membranas inorgánicas]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10537.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Crisol recubierto de TAC en el crecimiento del cristal de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10538.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el recubrimiento de carbono en forma de vidrio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10539.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Polvo de carburo de silicio de grado electrónico]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10540.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el calentador Aln?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10897.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Partes cerámicas semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10898.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[LPE es el método importante para preparar el cristal único de tipo P-Sic y el cristal único 3C-SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10899.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Calentadores de cerámica]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-10900.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Industria de dispositivos de energía de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11106.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Introducción de material de alúmina]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11109.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Membranas cerámicas de disco]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11112.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cabezales de duchas de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11119.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Componentes cerámicos de precisión en semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11124.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tecnología de dopaje de FZ Silicon]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11129.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Método de síntesis de polvo de carburo de silicio (sic) de alta pureza]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11132.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-06-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso de moldeo compuesto de carbono/carbono]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11137.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-06-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Aplicaciones de material PBN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11143.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-06-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Calentadores de grafito recubiertos conductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11148.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué el cuarzo necesita ser recocido?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11153.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cambios en el mercado de GaN]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11158.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Productos de grafito para el horno de vacío]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11163.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Componentes cerámicos principales en la fabricación de semiconductores]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11170.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es la diferencia entre el dopaje arsénico y el dopaje de fósforo en silicio de cristal único?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11177.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sustrato de cerámica de nitruro de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11815.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Bote de obleas de carburo de silicio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11818.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son las dificultades técnicas del horno de crecimiento de cristal sic?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11913.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el proceso de difusión?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-11963.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la membrana de disco de carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12049.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué el grafito isostático es ampliamente elogiado en el mercado de materiales?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12053.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sustratos de alúmina para envases electrónicos]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12064.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es la tensión de las piezas de vidrio de cuarzo?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12070.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son las características de la cerámica de alúmina negra?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12082.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la deposición química de vapor?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12093.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cómo los sustratos cerámicos soportan los módulos de potencia automotrices]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12104.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el corte en cubitos de plasma?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12115.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué son los anillos en el grabado?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12126.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la cerámica de carburo de silicio recristalizado?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12136.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cabezales de ducha en grabado]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12145.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la tecnología de unión de obleas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12156.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La introducción a tres tipos de procesos de oxidación.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12167.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Procesamiento de lingotes de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12176.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La diferencia entre sustratos de SiC ficticios, de investigación y de producción]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12186.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Componentes de silicio para grabado en seco]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12197.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿A qué indicadores se debe prestar atención al seleccionar las obleas adecuadas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12208.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Portabrocas de vacío de cerámica]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12219.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el proceso de dopaje?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12230.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tratamiento de superficie para mandril electrostático de alta gama]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12240.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es SOI?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12251.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cristales de SiC preparados mediante el método PVT]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12261.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la guía deslizante aerostática de carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12272.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué las paredes laterales se doblan durante el grabado en seco?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12281.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Los parámetros básicos del grabado en seco]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12289.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el proceso de epitaxia del silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12302.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el buje autolubricante?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12313.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué se introduce CO2 durante el proceso de corte de obleas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12324.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Почему CO2 вводится в процессе раскроя пластин]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12335.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Grabado y Morfología del Grabado]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12343.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo protege el recubrimiento TaC los componentes de grafito en semiconductores?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12355.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la muesca en las obleas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-12369.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Silicio, Carburo de Silicio y Nitruro de Galio]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13627.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo se genera la tensión en los productos semiconductores de cuarzo?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13630.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo se genera la tensión en los productos semiconductores de cuarzo?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13633.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Crisol de cuarzo fundido de alta pureza para extracción de monocristal]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13637.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cómo elegir el fieltro rígido adecuado para paneles acústicos y de insonorización]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13641.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué los hornos verticales se han convertido en la opción principal?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13908.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son los defectos de las partículas?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13910.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sellos mecánicos cerámicos de SiC]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13912.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuál es la función de los anillos de enfoque?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13914.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué son los materiales semiconductores de primera, segunda, tercera y cuarta generación?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13916.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proceso de preparación de cerámicas de SiC.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13918.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es la limpieza de obleas semiconductoras?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13920.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sinterización de cerámicas de alúmina]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13922.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué son las Obleas de Vidrio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13924.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sustratos cerámicos: Al₂O₃, AlN, Si₃N₄]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13926.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[La energía solar ilumina la vida]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13928.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el rodillo flotante de aire?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13930.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Una descripción general de los sustratos SOI]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13932.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Análisis de sistemas de frenos compuestos carbono-cerámicos.]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13934.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el sistema de sellado de gas seco?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13937.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué son las membranas cerámicas de carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13939.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Son mejores los frenos cerámicos de carbono?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13941.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cómo se fabrican los tubos semiconductores para hornos de cuarzo?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13942.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Portabrocas de vacío de alúmina porosa]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-13944.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Por qué están recibiendo tanta atención las membranas de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14828.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué son los discos de freno carbocerámicos?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14830.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fieltro a base de viscosa en horno de calentamiento por inducción]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14837.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Cuáles son los desafíos en la fabricación de sustratos de SiC?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14846.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[¿Qué es el carburo de silicio?]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14856.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fieltro de carbono en horno de calentamiento por inducción - parte 2]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14864.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Modificación de fibra de carbono]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14875.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Componentes y aplicaciones comunes de cuarzo semiconductor]]></title><link><![CDATA[https://es.semicorex.com/news-show-14887.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-28]]></pubDate></item></channel></rss>