Los anillos de borde semicorex se confían en los principales fabricantes y OEM de semiconductores en todo el mundo. Con un estricto control de calidad, procesos de fabricación avanzados y un diseño basado en aplicaciones, Semicorex proporciona soluciones que extienden la vida útil de la herramienta, optimizan la uniformidad de las obleas y admiten nodos de procesos avanzados.*
Leer másEnviar ConsultaLas placas de distribución de gases semicorex, hechas de CVD SiC, es un componente crítico en los sistemas de grabado de plasma, diseñadas para garantizar una dispersión de gas uniforme y un rendimiento de plasma constante en la oblea. Semicorex es la opción confiable para soluciones de cerámica de alto rendimiento, que ofrece pureza de material inigualable, precisión de ingeniería y apoyo confiable adaptado a las demandas de la fabricación avanzada de semiconductores.*
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha Solid SiC es un componente crucial en la fabricación de semiconductores, diseñado específicamente para procesos de deposición química de vapor (CVD). Semicorex, líder en tecnología de materiales avanzada, ofrece cabezales de ducha de SiC sólido que garantizan una distribución superior de los gases precursores sobre las superficies del sustrato. Esta precisión es vital para lograr resultados de procesamiento consistentes y de alta calidad.**
Leer másEnviar ConsultaA través de un proceso de deposición química de vapor (CVD), Semicorex CVD SiC Focus Ring se deposita meticulosamente y se procesa mecánicamente para lograr el producto final. Gracias a las propiedades superiores de su material, es indispensable en los entornos exigentes de la fabricación moderna de semiconductores.**
Leer másEnviar ConsultaEl anillo de grabado hecho de CVD SiC es un componente esencial en el proceso de fabricación de semiconductores y ofrece un rendimiento excepcional en entornos de grabado por plasma. Con su dureza superior, resistencia química, estabilidad térmica y alta pureza, CVD SiC garantiza que el proceso de grabado sea preciso, eficiente y confiable. Al elegir los anillos de grabado CVD SiC de Semicorex, los fabricantes de semiconductores pueden mejorar la longevidad de sus equipos, reducir el tiempo de inactividad y mejorar la calidad general de sus productos.*
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha Semicorex CVD SiC es un componente central utilizado en equipos de grabado de semiconductores y sirve como electrodo y conducto para gases de grabado. Elija Semicorex por su control superior de materiales, tecnología de procesamiento avanzada y rendimiento confiable y duradero en aplicaciones de semiconductores exigentes.*
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