El anillo de SiC a granel Semicorex es un componente crucial en los procesos de grabado de semiconductores, diseñado específicamente para su uso como anillo de grabado dentro de equipos avanzados de fabricación de semiconductores. Con nuestro firme compromiso de ofrecer productos de alta calidad a precios competitivos, estamos listos para convertirnos en su socio a largo plazo en China.*
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha de carburo de silicio CVD Semicorex es un componente esencial y altamente especializado en el proceso de grabado de semiconductores, particularmente en la fabricación de circuitos integrados. Con nuestro compromiso inquebrantable de ofrecer productos de alta calidad a precios competitivos, estamos preparados para convertirnos en su socio a largo plazo en China.*
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha Semicorex CVD SiC es un componente esencial en los procesos CVD modernos para lograr películas delgadas uniformes y de alta calidad con eficiencia y rendimiento mejorados. El control superior del flujo de gas, la contribución a la calidad de la película y la larga vida útil del cabezal de ducha CVD SiC lo hacen indispensable para aplicaciones exigentes de fabricación de semiconductores.**
Leer másEnviar ConsultaEl anillo de enfoque de carburo de silicio sólido Semicorex es un componente fundamental en la fabricación de semiconductores, ubicado estratégicamente fuera de la oblea para mantener el contacto directo. Al utilizar un voltaje aplicado, este anillo enfoca el plasma que lo atraviesa, mejorando así la uniformidad del proceso en la oblea. Construido únicamente a partir de carburo de silicio por deposición química de vapor (CVD SiC), este anillo de enfoque encarna las cualidades excepcionales que exige la industria de los semiconductores. En Semicorex nos dedicamos a fabricar y suministrar anillos de enfoque de carburo de silicio sólido de alto rendimiento que fusionan calidad con rentabilidad.
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha Semicorex SiC es un componente esencial en el proceso de crecimiento epitaxial, diseñado específicamente para mejorar la uniformidad y eficiencia de la deposición de películas delgadas en obleas semiconductoras. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha Semicorex CVD con revestimiento de SiC representa un componente avanzado diseñado para brindar precisión en aplicaciones industriales, especialmente en los ámbitos de la deposición química de vapor (CVD) y la deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD). Este cabezal de ducha CVD especializado con revestimiento de SiC, que sirve como conducto crítico para el suministro de gases precursores o especies reactivas, facilita la deposición precisa de materiales sobre la superficie de un sustrato, algo integral en estos sofisticados procesos de fabricación.
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