El soporte Semicorex RTP está recubierto de carburo de silicio mediante el proceso de deposición de vapor químico (CVD), que es realmente estable para RTA, RTP o limpieza química agresiva. En el núcleo del proceso de semiconductores, los susceptores de epitaxia se someten primero al entorno de deposición, por lo que tiene una alta resistencia al calor y a la corrosión. El portador revestido de SiC también tiene una alta conductividad térmica y excelentes propiedades de distribución del calor.
â Grafito recubierto de SiC de alta pureza
â Resistencia superior al calor y resistencia química
â Alta uniformidad térmica
â Excelente resistencia al desgaste
La placa portadora de grafito RTP de Semicorex es la solución perfecta para aplicaciones de procesamiento de obleas de semiconductores, incluido el crecimiento epitaxial y el procesamiento de manipulación de obleas. Nuestro producto está diseñado para ofrecer una resistencia al calor superior y uniformidad térmica, asegurando que los susceptores de epitaxia estén sujetos al entorno de deposición, con alta resistencia al calor y a la corrosión.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex RTP SiC Coating Carrier ofrece resistencia al calor superior y uniformidad térmica, lo que lo convierte en la solución perfecta para aplicaciones de procesamiento de obleas de semiconductores. Con su grafito recubierto de SiC de alta calidad, este producto está diseñado para soportar el entorno de deposición más duro para el crecimiento epitaxial. La alta conductividad térmica y las excelentes propiedades de distribución del calor garantizan un rendimiento confiable para RTA, RTP o limpieza química agresiva.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex RTP/RTA SiC Coating Carrier está diseñado para soportar las condiciones más duras del entorno de deposición. Con su alta resistencia al calor y la corrosión, este producto está diseñado para proporcionar un rendimiento óptimo para el crecimiento epitaxial. El soporte recubierto de SiC tiene una alta conductividad térmica y excelentes propiedades de distribución del calor, lo que garantiza un rendimiento confiable para RTA, RTP o limpieza química agresiva.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex SiC Graphite RTP Carrier Plate para MOCVD ofrece una resistencia al calor superior y uniformidad térmica, lo que la convierte en la solución perfecta para aplicaciones de procesamiento de obleas de semiconductores. Con un grafito recubierto de SiC de alta calidad, este producto está diseñado para soportar el entorno de deposición más duro para el crecimiento epitaxial. La alta conductividad térmica y las excelentes propiedades de distribución del calor garantizan un rendimiento confiable para RTA, RTP o limpieza química agresiva.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex SiC Coated RTP Carrier Plate for Epitaxial Growth es la solución perfecta para aplicaciones de procesamiento de obleas de semiconductores. Con sus susceptores de grafito de carbono de alta calidad y crisoles de cuarzo procesados por MOCVD en la superficie de grafito, cerámica, etc., este producto es ideal para la manipulación de obleas y el procesamiento de crecimiento epitaxial. El portador recubierto de SiC garantiza una alta conductividad térmica y excelentes propiedades de distribución del calor, lo que lo convierte en una opción confiable para RTA, RTP o limpieza química agresiva.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex es un fabricante y proveedor a gran escala de susceptor de grafito recubierto de carburo de silicio en China. Susceptor de grafito Semicorex diseñado específicamente para equipos de epitaxia con alta resistencia al calor y a la corrosión en China. Nuestro RTP RTA SiC Coated Carrier tiene una buena ventaja de precio y cubre muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo.
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