Puede estar seguro de comprar ICP Etching Carrier en nuestra fábrica y le ofreceremos el mejor servicio postventa y entrega oportuna. El susceptor de oblea Semicorex está fabricado de grafito recubierto de carburo de silicio mediante el proceso de deposición química de vapor (CVD). Este material posee propiedades únicas, que incluyen resistencia química y a altas temperaturas, excelente resistencia al desgaste, alta conductividad térmica y alta resistencia y rigidez. Estas propiedades lo convierten en un material atractivo para diversas aplicaciones de alta temperatura, incluidos los sistemas de grabado con plasma acoplado inductivamente (ICP).
Brindamos un servicio personalizado, lo ayudamos a innovar con componentes que duran más, reducen los tiempos de ciclo y mejoran el rendimiento.
El portador de obleas de grabado semicorex con recubrimiento CVD SIC es una solución avanzada de alto rendimiento adaptada para exigentes aplicaciones de grabado de semiconductores. Su estabilidad térmica superior, resistencia química y durabilidad mecánica lo convierten en un componente esencial en la fabricación moderna de obleas, asegurando una alta eficiencia, confiabilidad y rentabilidad para los fabricantes de semiconductores en todo el mundo.*
Leer másEnviar ConsultaEl disco de grabado Semicorex SiC ICP no son meros componentes; Es un facilitador esencial de la fabricación de semiconductores de vanguardia. A medida que la industria de semiconductores continúa su incesante búsqueda de miniaturización y rendimiento, la demanda de materiales avanzados como el SiC no hará más que intensificarse. Garantiza la precisión, la confiabilidad y el rendimiento necesarios para impulsar nuestro mundo impulsado por la tecnología. En Semicorex nos dedicamos a fabricar y suministrar discos de grabado SiC ICP de alto rendimiento que fusionan calidad con rentabilidad.**
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor de SiC Semicorex para ICP Etch se fabrica centrándose en mantener altos estándares de calidad y consistencia. Los sólidos procesos de fabricación utilizados para crear estos susceptores garantizan que cada lote cumpla con estrictos criterios de rendimiento, brindando resultados confiables y consistentes en el grabado de semiconductores. Además, Semicorex está equipado para ofrecer cronogramas de entrega rápidos, lo cual es crucial para mantener el ritmo de las demandas de respuesta rápida de la industria de semiconductores, garantizando que se cumplan los cronogramas de producción sin comprometer la calidad. En Semicorex nos dedicamos a fabricar y suministrar productos de alto rendimiento. Susceptor de SiC para ICP Etch que fusiona calidad con rentabilidad.**
Leer másEnviar ConsultaEl componente ICP recubierto de SiC de Semicorex está diseñado específicamente para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con un fino recubrimiento de cristal de SiC, nuestros soportes brindan una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme y resistencia química duradera.
Leer másEnviar ConsultaCuando se trata de procesos de manipulación de obleas como epitaxia y MOCVD, el recubrimiento de SiC de alta temperatura para cámaras de grabado por plasma de Semicorex es la mejor opción. Nuestros portadores brindan una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme y resistencia química duradera gracias a nuestro fino recubrimiento de cristal de SiC.
Leer másEnviar ConsultaLa bandeja de grabado por plasma ICP de Semicorex está diseñada específicamente para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores proporcionan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
Leer másEnviar Consulta