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China Portador de grabado ICP Fabricantes, Proveedores, Fábrica
Puede estar seguro de comprar ICP Etching Carrier en nuestra fábrica y le ofreceremos el mejor servicio postventa y entrega oportuna. El susceptor de oblea Semicorex está fabricado de grafito recubierto de carburo de silicio mediante el proceso de deposición química de vapor (CVD). Este material posee propiedades únicas, que incluyen resistencia química y a altas temperaturas, excelente resistencia al desgaste, alta conductividad térmica y alta resistencia y rigidez. Estas propiedades lo convierten en un material atractivo para diversas aplicaciones de alta temperatura, incluidos los sistemas de grabado con plasma acoplado inductivamente (ICP).
Brindamos un servicio personalizado, lo ayudamos a innovar con componentes que duran más, reducen los tiempos de ciclo y mejoran el rendimiento.
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Sistema de grabado por plasma ICP
El portador recubierto de SiC de Semicorex para el sistema de grabado por plasma ICP es una solución confiable y rentable para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Nuestros soportes cuentan con un fino revestimiento de cristal de SiC que proporciona una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme y resistencia química duradera.
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Plasma acoplado inductivamente (ICP)
El susceptor recubierto de carburo de silicio de Semicorex para plasma acoplado inductivamente (ICP) está diseñado específicamente para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores garantizan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Soporte para obleas de grabado ICP
El soporte para obleas de grabado ICP de Semicorex es la solución perfecta para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores garantizan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Placa portadora de grabado ICP
La placa portadora de grabado ICP de Semicorex es la solución perfecta para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto proporciona una resistencia superior al calor y la corrosión, incluso uniformidad térmica y patrones de flujo de gas laminar. Con una superficie limpia y lisa, nuestro transportador es perfecto para manipular obleas impecables.
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Soporte de oblea para proceso de grabado ICP
El soporte de obleas de Semicorex para el proceso de grabado ICP es la elección perfecta para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto cuenta con una resistencia superior al calor y la corrosión, uniformidad térmica uniforme y patrones de flujo de gas laminar óptimos para obtener resultados consistentes y confiables.
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Grafito recubierto de carbono de silicio ICP
El grafito recubierto de carbono de silicio ICP de Semicorex es la opción ideal para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto cuenta con una resistencia superior al calor y la corrosión, uniformidad térmica uniforme y patrones de flujo de gas laminar óptimos.
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Semicorex ha estado produciendo Portador de grabado ICP durante muchos años y es uno de los fabricantes y proveedores profesionales de Portador de grabado ICP en China. Una vez que compre nuestros productos avanzados y duraderos que suministran embalaje a granel, garantizamos la gran cantidad en una entrega rápida. A lo largo de los años, hemos brindado a los clientes un servicio personalizado. Los clientes están satisfechos con nuestros productos y excelente servicio. ¡Esperamos sinceramente convertirnos en su socio comercial confiable a largo plazo! Bienvenido a comprar productos de nuestra fábrica.
