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China Portador de grabado ICP Fabricantes, Proveedores, Fábrica
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Recubrimiento de SiC de alta temperatura para cámaras de grabado por plasma
Cuando se trata de procesos de manipulación de obleas como epitaxia y MOCVD, el recubrimiento de SiC de alta temperatura para cámaras de grabado por plasma de Semicorex es la mejor opción. Nuestros portadores brindan una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme y resistencia química duradera gracias a nuestro fino recubrimiento de cristal de SiC.
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Bandeja de grabado por plasma ICP
La bandeja de grabado por plasma ICP de Semicorex está diseñada específicamente para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores proporcionan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Sistema de grabado por plasma ICP
El portador recubierto de SiC de Semicorex para el sistema de grabado por plasma ICP es una solución confiable y rentable para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Nuestros soportes cuentan con un fino revestimiento de cristal de SiC que proporciona una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme y resistencia química duradera.
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Plasma acoplado inductivamente (ICP)
El susceptor recubierto de carburo de silicio de Semicorex para plasma acoplado inductivamente (ICP) está diseñado específicamente para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores garantizan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Soporte para obleas de grabado ICP
El soporte para obleas de grabado ICP de Semicorex es la solución perfecta para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores garantizan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Placa portadora de grabado ICP
La placa portadora de grabado ICP de Semicorex es la solución perfecta para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto proporciona una resistencia superior al calor y la corrosión, incluso uniformidad térmica y patrones de flujo de gas laminar. Con una superficie limpia y lisa, nuestro transportador es perfecto para manipular obleas impecables.
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Semicorex ha estado produciendo Portador de grabado ICP durante muchos años y es uno de los fabricantes y proveedores profesionales de Portador de grabado ICP en China. Una vez que compre nuestros productos avanzados y duraderos que suministran embalaje a granel, garantizamos la gran cantidad en una entrega rápida. A lo largo de los años, hemos brindado a los clientes un servicio personalizado. Los clientes están satisfechos con nuestros productos y excelente servicio. ¡Esperamos sinceramente convertirnos en su socio comercial confiable a largo plazo! Bienvenido a comprar productos de nuestra fábrica.
