Bandeja de grabado por plasma ICP

Nuestra bandeja de grabado por plasma ICP está recubierta de carburo de silicio mediante el método CVD, que es la solución ideal para procesos de manipulación de obleas que requieren limpieza química agresiva y a alta temperatura. Los portadores de Semicorex cuentan con un fino recubrimiento de cristal de SiC que proporciona perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evita la contaminación o la difusión de impurezas.
En Semicorex, nos enfocamos en brindar productos rentables y de alta calidad a nuestros clientes. Nuestra bandeja de grabado por plasma ICP tiene una ventaja de precio y se exporta a muchos mercados europeos y americanos. Nuestro objetivo es ser su socio a largo plazo, brindando productos de calidad constante y un servicio al cliente excepcional.
Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestra bandeja de grabado por plasma ICP.

Parámetros de la bandeja de grabado por plasma ICP

Características de la bandeja de grabado por plasma ICP

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.