Sistema de grabado con plasma ICP para proceso PSS

El sistema de grabado por plasma ICP de Semicorex para procesos PSS proporciona una excelente resistencia al calor y a la corrosión para procesos de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro fino revestimiento de cristal de SiC ofrece una superficie limpia y lisa, lo que garantiza un manejo óptimo de obleas impecables.

En Semicorex, nos enfocamos en brindar productos rentables y de alta calidad a nuestros clientes. Nuestro sistema de grabado por plasma ICP para proceso PSS tiene una ventaja de precio y se exporta a muchos mercados europeos y americanos. Nuestro objetivo es ser su socio a largo plazo, brindando productos de calidad constante y un servicio al cliente excepcional.

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Parámetros del sistema de grabado por plasma ICP para el proceso PSS

Características del sistema de grabado con plasma ICP para el proceso PSS

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.