Como fabricante profesional, nos gustaría proporcionarle componentes semiconductores. Semicorex es su socio para mejorar el procesamiento de semiconductores. Nuestros recubrimientos de carburo de silicio son densos, resistentes a altas temperaturas y químicos, que a menudo se usan en todo el ciclo de fabricación de semiconductores, incluido el procesamiento de obleas y obleas de semiconductores y la fabricación de semiconductores.
Los componentes recubiertos de SiC de alta pureza son cruciales para los procesos en el semiconductor. Nuestra oferta abarca desde consumibles de grafito para zonas calientes de crecimiento de cristales (calentadores, susceptores de crisol, aislamiento) hasta componentes de grafito de alta precisión para equipos de procesamiento de obleas, como susceptores de grafito recubiertos de carburo de silicio para Epitaxia o MOCVD.
Ventajas para los procesos de semiconductores
Las fases de deposición de película delgada, como la epitaxia o MOCVD, o el procesamiento de manipulación de obleas, como el grabado o el implante de iones, deben soportar altas temperaturas y una limpieza química intensa. Semicorex suministra una construcción de grafito recubierto de carburo de silicio (SiC) de alta pureza que proporciona una resistencia superior al calor y una resistencia química duradera, incluso uniformidad térmica para una resistencia y un espesor de capa epidérmica consistentes.
Tapas de cámara â
Las tapas de las cámaras utilizadas en el crecimiento de cristales y el procesamiento de manipulación de obleas deben soportar altas temperaturas y una limpieza química intensa.
Efector final â
El efector final es la mano del robot que mueve las obleas de semiconductores entre posiciones en el equipo de procesamiento de obleas y los portadores.
Anillos de entrada â
Anillo de entrada de gas recubierto de SiC por equipo MOCVD El crecimiento del compuesto tiene una alta resistencia al calor y a la corrosión, que tiene una gran estabilidad en ambientes extremos.
Anillo de enfoque â
Semicorex suministra un anillo de enfoque recubierto de carburo de silicio que es realmente estable para RTA, RTP o limpieza química agresiva.
Mandril de obleas â
Los mandriles de obleas de vacío de cerámica ultraplano Semicorex están recubiertos con SiC de alta pureza y se utilizan en el proceso de manipulación de obleas.
El mandril de vacío Semicorex SiC representa un pináculo de la ingeniería de precisión adaptada a la exigente industria de semiconductores. Elaborado a partir de sustratos de grafito y mejorado mediante técnicas de deposición química de vapor (CVD) de última generación, este dispositivo innovador integra a la perfección las propiedades incomparables del recubrimiento de carburo de silicio (SiC). Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Leer másEnviar ConsultaSemicorex SiC Wafer Chuck representa el pináculo de la innovación en la fabricación de semiconductores y actúa como un componente crucial en el intrincado proceso de fabricación de semiconductores. Elaborado con meticulosa precisión y tecnología de vanguardia, este mandril desempeña un papel indispensable en el soporte y la estabilización de obleas de carburo de silicio (SiC) durante las distintas etapas de producción. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Leer másEnviar ConsultaEl tubo de horno de difusión Semicorex es un componente crucial dentro de los equipos de fabricación de semiconductores, diseñado específicamente para facilitar reacciones precisas y controladas esenciales para los procesos de fabricación de semiconductores. Como recipiente principal dentro de la zona de reacción de un horno de semiconductores, el tubo del horno de difusión desempeña un papel fundamental para garantizar la integridad y la calidad de los dispositivos semiconductores producidos. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Leer másEnviar ConsultaLos revestimientos de tubos de proceso Semicorex SiC (carburo de silicio) son componentes cruciales en la producción de semiconductores en entornos que requieren altas temperaturas y altos niveles de pureza. Estos revestimientos de tubos de proceso de SiC están diseñados específicamente para soportar condiciones térmicas extremas y mantener altos niveles de pureza para garantizar que el proceso de fabricación de semiconductores no se vea comprometido. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Leer másEnviar ConsultaLa paleta voladiza de SiC (carburo de silicio) Semicorex es un componente crucial que se utiliza en los procesos de fabricación de semiconductores, particularmente en hornos de difusión o LPCVD (deposición química de vapor a baja presión) durante procesos como la difusión y el RTP (procesamiento térmico rápido). La paleta voladiza de SiC sirve para transportar obleas semiconductoras de forma segura dentro del tubo de proceso durante diversos procesos de alta temperatura, como difusión y RTP. Sirve para soportar y transportar obleas dentro del tubo de proceso de estos hornos. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Leer másEnviar ConsultaLas piezas de repuesto Semicorex en crecimiento epitaxial son componentes cruciales utilizados dentro de los sistemas de crecimiento epitaxial, particularmente en procesos que involucran configuraciones de tubos de cuarzo. Estas piezas desempeñan un papel vital a la hora de facilitar el flujo de gas para impulsar la rotación de la base de la bandeja y garantizar un control preciso de la temperatura durante todo el proceso de crecimiento epitaxial. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
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