Los anillos de grabado de silicio Semicorex son componentes de grabado de precisión en forma de anillo fabricados a partir de silicio monocristalino de alta pureza. Son las piezas de silicio esenciales utilizadas en los equipos de grabado por plasma, diseñadas especialmente para crear condiciones óptimas de grabado por plasma. Elija Semicorex, elija los anillos de grabado de silicona de alta calidad.
Los anillos de grabado de silicio son los componentes esenciales dentro de la cámara de grabado por plasma de los equipos de grabado CCP/ICP y normalmente se colocan alrededor de la oblea semiconductora. Sus funciones principales son soportar la oblea semiconductora, mantener una distribución uniforme del plasma, proteger el borde de la oblea y así ayudar a crear condiciones operativas óptimas para el proceso de grabado con plasma.
Los anillos de grabado de silicio Semicorex se fabrican a partir de MCZ de alta pureza cuidadosamente seleccionado.silicio monocristalino, que ofrece las siguientes excelentes propiedades sobre el silicio monocristalino CZ convencional.
Alta pureza: La pureza es superior al 99,9999999%, lo que significa que los anillos de grabado de silicio Semicorex casi no contienen impurezas. Esta pureza ultraalta puede evitar eficazmente la interferencia de las impurezas de los componentes durante el proceso de grabado, garantizando así una alta precisión de grabado.
Estructura estable: El silicio monocristalino MCZ presenta una estructura cristalina superior con menores defectos que el silicio monocristalino CZ convencional. Esta estructura cristalina estable proporciona a los anillos de grabado de silicio Semicorex una mayor resistencia a la corrosión por plasma y les permite soportar duras condiciones operativas de grabado.
Excelente uniformidad de resistividad:Anillos de grabado de silicona SemicorexOfrecen una uniformidad de resistencia excepcional con RRG <5 %. Baja resolución. (<0,02 Ω·cm), Res. media. (0,2–25 Ω·cm), alta resolución. (>100 Ω·cm). Esta excelente uniformidad de resistividad puede minimizar la distribución desigual del plasma causada por una resistividad excesivamente alta o baja, lo que contribuye a un campo eléctrico ideal para el grabado con plasma de alta precisión.
Semicorex cuenta con un equipo técnico experimentado que puede proporcionar personalización personalizada y evaluaciones técnicas para nuestros valiosos clientes y también ha establecido procedimientos sistemáticos de procesamiento e inspección para garantizar la calidad del producto.
Servicios de personalización flexibles: Semicorex admite la personalización según los dibujos del cliente, y el diámetro máximo personalizado de los anillos de grabado de silicona puede ser de hasta 470 mm.
Tratamiento superficial de alto estándar: la precisión del pulido se puede controlar estrictamente dentro de Ra < 0,1 µm, y el pulido fino logra un acabado superficial de Ra > 0,1 µm.
Estricta inspección de calidad: se realizarán mediciones dimensionales, pruebas de resistividad e inspección visual para garantizar que los anillos de grabado de silicona estén libres de astillas, rayones, grietas, manchas y otros defectos.