Semicorex Silicon Shield Ring es un componente de silicio de alta pureza diseñado para sistemas avanzados de grabado por plasma, que sirve como escudo protector y electrodo auxiliar. Semicorex garantiza un rendimiento ultralimpio, estabilidad del proceso y resultados de grabado superiores con componentes semiconductores diseñados con precisión.*
Semicorex Silicon Shield Ring es un componente semiconductor crítico en el proceso de grabado. Su función principal es rodear el electrodo y evitar una fuga excesiva de plasma. Con una pureza del material superior a 9N (99,9999999%), el anillo protector se puede fabricar tanto con cristal monocristalino como con cristal múltiple.silicio, lo que garantiza un funcionamiento ultralimpio y una compatibilidad confiable con procesos avanzados de fabricación de semiconductores.
Las propiedades térmicas y eléctricas del silicio respaldan aún más el rendimiento del Etching Shield Ring. Su resistencia a las altas temperaturas del proceso proporciona integridad estructural durante la exposición prolongada al plasma y su conductividad eléctrica permite que el componente funcione correctamente como elemento en el sistema de electrodos. Juntas, estas aplicaciones mejoran el confinamiento del plasma y la uniformidad de la energía, lo que permite perfiles de grabado repetibles en las obleas.
Las propiedades térmicas y eléctricas del silicio respaldan aún más el rendimiento del Etching Shield Ring. Su resistencia a las altas temperaturas del proceso proporciona integridad estructural durante la exposición prolongada al plasma y su conductividad eléctrica permite que el componente funcione correctamente como elemento en el sistema de electrodos. Juntas, estas aplicaciones mejoran el confinamiento del plasma y la uniformidad de la energía, lo que permite perfiles de grabado repetibles en las obleas.
La tolerancia mecánica es otra característica notable del anillo protector de grabado de silicio. Al estar fabricado con tolerancias estrictas, garantiza un posicionamiento preciso alrededor del electrodo y mantiene el espaciado y la geometría de la cámara. Esta precisión mecánica genera condiciones de proceso repetibles para una menor variabilidad entre ejecuciones individuales y ayuda a permitir la producción de semiconductores en gran volumen. El material en sí tiene una excelente compatibilidad con entornos de plasma; por lo tanto, erosionar su estructura le permite proporcionar una larga vida útil y estabilidad en el desempeño del proceso.
La durabilidad y la rentabilidad son dos beneficios más valiosos. Al proteger del plasma secciones innecesarias de la cámara, el anillo protector reduce el desgaste de otros componentes críticos, lo que reduce los esfuerzos de mantenimiento y aumenta el tiempo operativo general. La larga vida útil y el reemplazo menos frecuente lo convierten en una solución rentable para que las fábricas de semiconductores aumenten la productividad y, por lo tanto, reduzcan los costos operativos.
ElSilicioSemicorex Silicon Shield Ring es un componente semiconductor crítico en el proceso de grabado. Su función principal es rodear el electrodo y evitar una fuga excesiva de plasma. Con una pureza del material superior a 9N (99,9999999%), el anillo protector se puede fabricar tanto con cristal monocristalino como con cristal múltiple.