Inyector de silicio

El inyector de silicio Semicorex es un componente de pureza ultra alta diseñado para la entrega precisa de gas en sistemas de deposición química de vapor de baja presión (LPCVD) para polisilicio y deposición de películas delgadas. Construido a partir de 9N (99,9999999%)silicio de alta pureza, este inyector tubular fino proporciona una limpieza superior, compatibilidad con productos químicos y estabilidad térmica en condiciones de proceso extremas.

A medida que la fabricación de semiconductores continúa evolucionando hacia niveles más altos de integración y un control más estricto de la contaminación, también se requerirá que cada componente de suministro de gas en la cámara de deposición cumpla con estándares más altos que antes. El inyector de silicio Semicorex ha sido desarrollado específicamente para este tipo de requisitos: entrega materiales gaseosos de manera estable y uniforme en toda la cámara de reacción sin introducir contaminación que afectaría negativamente la calidad de la película o el rendimiento de la oblea.

El inyector se fabrica a partir de silicio monocristalino o policristalino según los requisitos del proceso, y el material está diseñado para contener bajas impurezas metálicas, particuladas e iónicas. Esto proporciona compatibilidad con condiciones LPCVD ultralimpias, donde incluso trazas de contaminación pueden inducir un defecto en la película o falla de un dispositivo. El uso de silicio como material base también reduce la falta de coincidencia de materiales entre el inyector y los componentes de silicio de la cámara, lo que reduce significativamente los riesgos de generación de partículas o reacciones químicas durante el uso y el funcionamiento a alta temperatura.

La estructura tubular dedicada del inyector de silicio permite una distribución controlada y equitativa del gas sobre una carga uniforme de oblea. Los orificios de microingeniería y la superficie interior lisa garantizan caudales reproducibles junto con una dinámica de gas laminar que son fundamentales para un espesor de película consistente y tasas de deposición estables en el horno. Ya sea silano (SiH₄), diclorosilano (SiH₂Cl₂) u otros gases reactivos, el inyector ofrece un rendimiento confiable y la precisión necesaria para el crecimiento de una película de polisilicio de buena calidad.

Debido a su excelente estabilidad térmica, el inyector de silicio Semicorex puede soportar temperaturas de hasta 1250 °C y puede controlarse sin temor a deformaciones, grietas o deformaciones durante múltiples ciclos de LPCVD de alta temperatura. Además, su alta resistencia a la oxidación e inercia química proporciona ciclos prolongados en atmósferas oxidantes, reductoras o corrosivas, al tiempo que reduce el mantenimiento y crea estabilidad en el proceso.

Cada inyector se fabrica utilizando mecanizado y pulido CNC de última generación, logrando tolerancias dimensionales submicrónicas y acabados ultrasuaves en la superficie. El acabado superficial de alta calidad minimiza la turbulencia del gas, creando muy pocas o ninguna partícula y al mismo tiempo garantiza características de flujo consistentes a través de cambios térmicos y de presión inconsistentes. La fabricación de precisión garantiza procesos estrictamente controlados, resultados reproducibles y fiables y, por tanto, un rendimiento constante del equipo.

Semicorex fabrica inyectores de silicio a medida, disponibles en longitudes, diámetros y configuraciones de boquillas personalizados. Se pueden desarrollar soluciones personalizadas para mejorar los patrones de dispersión de gas para geometrías de reactor únicas o recetas de deposición. Cada inyector es inspeccionado y verificado en cuanto a su pureza para ofrecer el más alto nivel de calidad semiconductora.componentes de silicio.

El inyector de silicio Semicorex proporciona la precisión y pureza necesarias en la fabricación de semiconductores actual. La incorporación de silicio de pureza ultra alta 9N, precisión de mecanizado a nivel de micras y alta estabilidad térmica y química proporciona una distribución uniforme del gas, una menor generación de partículas y una confiabilidad excepcional al depositar polisilicio LPCVD.