China Grafito especializado Fabricantes, Proveedores, Fábrica

El grafito especializado es un tipo de grafito artificial que se procesa. Es un material importante que es indispensable en todos los aspectos del proceso de fabricación de semiconductores y fotovoltaicos, que incluye crecimiento de cristales, implantación de iones, epitaxia, etc.

1. Crecimiento cristalino de carburo de silicio (sic)

El carburo de silicio, como material semiconductor de tercera generación, se usa ampliamente en nuevos vehículos de energía, comunicaciones 5G y otros campos. En el proceso de crecimiento de cristal SIC de 6 y 8 pulgadas, el grafito isostático se utiliza principalmente para fabricar los siguientes componentes clave:

Crisol de grafito: esto se puede usar para sintetizar la materia prima de polvo SIC y también ayudar en el crecimiento de los cristales a altas temperaturas. Su alta pureza, resistencia a alta temperatura y resistencia a la choque térmico aseguran un entorno de crecimiento de cristal estable.

Calentador de grafito: esto proporciona una distribución de calor uniforme, asegurando el crecimiento de cristal SIC de alta calidad.

Tubo de aislamiento: esto mantiene la uniformidad de temperatura dentro del horno de crecimiento del cristal y reduce la pérdida de calor.

2. Implantación de iones

La implantación de iones es un proceso clave en la fabricación de semiconductores. El grafito isostático se usa principalmente para fabricar los siguientes componentes en implantadores de iones:

Getter de grafito: esto absorbe iones de impureza en el haz de iones, asegurando la pureza de iones.

Anillo de enfoque de grafito: esto enfoca el haz de iones, mejorando la precisión y la eficiencia del implante de iones. Bandejas de sustrato de grafito: se utiliza para admitir obleas de silicio y mantener la estabilidad y la consistencia durante la implantación de iones.

3. Proceso de epitaxia

El proceso de epitaxia es un paso crítico en la fabricación de dispositivos de semiconductores. El grafito presionado isostáticamente se utiliza principalmente para fabricar los siguientes componentes en hornos de epitaxy:

Bandejas de grafito y susceptores: se utiliza para soportar obleas de silicio, proporcionando soporte estable y conducción de calor uniforme durante el proceso de epitaxia.

4. Otras aplicaciones de fabricación de semiconductores

El grafito presionado isostáticamente también se usa ampliamente en las siguientes aplicaciones de fabricación de semiconductores:

Proceso de grabado: utilizado para fabricar electrodos de grafito y componentes protectores para grabadores. Su resistencia a la corrosión y alta pureza aseguran la estabilidad y la precisión en el proceso de grabado.

Deposición de vapor químico (CVD): se utiliza para fabricar bandejas y calentadores de grafito dentro de los hornos de CVD. Su alta conductividad térmica y su resistencia a la alta temperatura aseguran una deposición uniforme de película delgada.

Prueba de envasado: se usa para fabricar accesorios de prueba y bandejas de portadores. Su alta precisión y baja contaminación aseguran resultados precisos de las pruebas.

Ventajas de las piezas de grafito

Alta pureza:

Utilizando material de grafito presionado por alta pureza con contenido de impureza extremadamente bajo, cumple con los estrictos requisitos de pureza de material de la fabricación de semiconductores. El propio horno de purificación de la compañía puede purificar el grafito a menos de 5ppm.

Alta precisión:

Con equipos de procesamiento avanzados y tecnología de procesamiento maduro, garantiza que la precisión dimensional del producto y las tolerancias de forma y posición alcancen el nivel de micras.

Rendimiento alto:

El producto tiene una excelente resistencia a la temperatura, resistencia a la corrosión, resistencia a la radiación, una alta conductividad térmica y otras propiedades, que cumple con las diversas condiciones de trabajo duras de la fabricación de semiconductores.

Servicio personalizado:

Los servicios de diseño y procesamiento de productos personalizados se pueden proporcionar de acuerdo con las necesidades del cliente para satisfacer las necesidades de diferentes escenarios de aplicación.

Tipos de productos de grafito

(1) Grafito isostático
Los productos de grafito isostáticos son producidos por una presión isostática fría. En comparación con otros métodos de formación, los crisoles producidos por este proceso tienen una excelente estabilidad. Los productos de grafito necesarios para los cristales individuales SIC tienen un tamaño grande, lo que conducirá a una pureza desigual en la superficie y dentro de los productos de grafito, que no pueden cumplir con los requisitos de uso. Para cumplir con los requisitos de purificación de profundidad de los productos de grafito de gran tamaño requeridos para los cristales individuales SIC, se debe adoptar un proceso único de purificación de pulso termoquímico de alta temperatura para lograr la purificación profunda y uniforme de productos de grafito de gran tamaño o de forma especial, de modo que la pureza de la superficie del producto y la núcleo sean los requisitos de uso.

(2) Grafito poroso
El grafito poroso es un tipo de grafito con alta porosidad y baja densidad. En el proceso de crecimiento de cristal SIC, el grafito poroso juega un papel importante en la mejora de la uniformidad de la transferencia de masa, reduciendo la tasa de cambio de fase y la mejora de la forma del cristal.
El uso de grafito poroso mejora la uniformidad de temperatura y temperatura del área de la materia prima, aumenta la diferencia de temperatura axial en el crisol y también tiene un cierto efecto en el debilitamiento de la recristalización de la superficie de la materia prima; En la cámara de crecimiento, el grafito poroso mejora la estabilidad del flujo de material a lo largo del proceso de crecimiento, aumenta la relación C/Si del área de crecimiento, ayuda a reducir la probabilidad de cambio de fase y, al mismo tiempo, el grafito poroso también juega un papel en la mejora de la interfaz cristalina.

(3) fieltro
El fieltro suave y el fieltro duro juegan el papel de importantes materiales de aislamiento térmico en el crecimiento del cristal SIC y los enlaces epitaxiales.

(4) Foil de grafito
El papel de grafito es un material funcional hecho de grafito de escamas de alto carbono a través del tratamiento químico y el rodamiento de alta temperatura. Tiene alta conductividad térmica, conductividad eléctrica, flexibilidad y resistencia a la corrosión.

(5) Materiales compuestos
El campo térmico de carbono-carbono es uno de los consumibles centrales en la producción fotovoltaica de horno de un solo cristal.

Producción semicorex

Semicorex hace grafito con métodos de producción personalizados de lotes pequeños. La producción de lotes pequeños hace que los productos sean más controlables. Todo el proceso está controlado por controladores lógicos programables (PLC), se registraron los datos detallados del proceso, lo que permite la trazabilidad completa del ciclo de vida.

Durante todo el proceso de tostado, la consistencia se logró en resistividad en diferentes ubicaciones y el control de temperatura apretado mantenido. Esto garantiza la homogeneidad y confiabilidad de los materiales de grafito.

Semicorex utiliza tecnología apremiante totalmente isostática, que es diferente de otros proveedores; Significa que el grafito es ultra uniforme en sí mismo y se demuestra particularmente importante en los procesos epitaxiales. Se realizaron las pruebas integrales de uniformidad de material, que incluye densidad, resistividad, dureza, resistencia a la flexión y resistencia en diferentes muestras.