Las placas base de montaje de alúmina semicorex son un componente de cerámica de alto rendimiento diseñado para un manejo preciso de obleas en la fabricación de semiconductores. Su fuerza superior, aislamiento y estabilidad térmica lo hacen ideal para exigir entornos de automatización de la sala limpia.*
Leer másEnviar ConsultaEl brazo robot de alúmina semicorex es un componente de cerámica de alto rendimiento diseñado para un manejo preciso de obleas en la fabricación de semiconductores. Su fuerza superior, aislamiento y estabilidad térmica lo hacen ideal para exigir entornos de automatización de la sala limpia.*
Leer másEnviar ConsultaEl efector de la alúmina de alúmina semicorex es un componente de ingeniería de precisión diseñada específicamente para un manejo de obleas confiable y sin contaminación en la fabricación de semiconductores y aplicaciones relacionadas.*
Leer másEnviar ConsultaEl mandril de cerámica porosa Semicorex (mandril de vacío) es una herramienta de alta precisión diseñada para sujetar de forma segura obleas durante los procesos de fabricación de semiconductores. Al elegir Semicorex, usted se beneficia de una solución que ofrece rendimiento, durabilidad y opciones de personalización excepcionales, lo que garantiza una mayor eficiencia de producción y estándares de calidad consistentes.*
Leer másEnviar ConsultaLos mandriles de vacío de alúmina Semicorex son componentes diseñados con precisión para sujetar de forma segura obleas o sustratos durante procesos críticos de fabricación de precisión y semiconductores. Con el compromiso de Semicorex con materiales de alta calidad y técnicas de fabricación de vanguardia, nuestros mandriles de vacío de alúmina brindan confiabilidad, precisión y rendimiento inigualables para sus aplicaciones más exigentes.*
Leer másEnviar ConsultaSemicorex Vacuum Chuck es un componente de alto rendimiento diseñado para una manipulación segura y precisa de obleas en la fabricación de semiconductores. Elija Semicorex por nuestras soluciones avanzadas, duraderas y resistentes a la contaminación que garantizan un rendimiento óptimo incluso en los procesos más exigentes.*
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