El anillo de enfoque o los anillos de borde están diseñados para mejorar la uniformidad del grabado alrededor del borde o perímetro de la oblea.
Los anillos de enfoque Semicorex están recubiertos de carburo de silicio mediante deposición química de vapor (CVD) y brindan una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme para un espesor y resistencia consistentes de la capa Epi, y una resistencia química duradera, que están diseñados para resistir los ambientes extremos en el proceso de grabado con plasma o grabado en seco. .
Semicorex SiC Focus Ring es un componente de anillo de carburo de silicio de alta pureza diseñado para optimizar la distribución del plasma y la uniformidad del proceso de obleas en la fabricación de semiconductores. Elegir Semicorex significa garantizar una calidad constante, ingeniería de materiales avanzada y un rendimiento confiable en el que confían las principales fábricas de semiconductores de todo el mundo.*
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