Noticias de la compañía

¿Cuáles son las dificultades técnicas del horno de crecimiento de cristal sic?

El horno de crecimiento cristalino es el equipo central para el crecimiento de cristales de carburo de silicio. Es similar al horno tradicional de crecimiento cristalino cristalino de grado de silicio. La estructura del horno no es muy complicada. Se compone principalmente del cuerpo del horno, el s......

¿Qué es el recubrimiento de carbono en forma de vidrio?

Semicorex ofrece fieltro térmico de alta calidad y recubrimiento de carbono en forma de vidrio.

¿Qué es una oblea ficticia?

En el proceso de fabricación de semiconductores, las obleas constituyen la base de la producción de chips. Entre ellos, un tipo especial de oblea, denominada Dummy Wafer, desempeña un papel fundamental a la hora de garantizar la estabilidad del equipo y controlar los costes de producción.

Materiales de carbono porosos jerárquicos: síntesis e introducción

Sintetización de polvo de carburo de silicio de alta pureza

El polvo de carburo de silicio de alta pureza presenta características excepcionales de banda prohibida amplia, lo que lo convierte en un material ideal para fabricar dispositivos electrónicos de alta frecuencia y alta potencia.

Proceso PECVD

La deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD) es una tecnología ampliamente utilizada en la fabricación de chips. Utiliza la energía cinética de los electrones dentro del plasma para activar reacciones químicas en la fase gaseosa, logrando así la deposición de películas delgadas.