Las capas gruesas de carburo de silicio (SiC) de alta pureza, que normalmente superan 1 mm, son componentes críticos en diversas aplicaciones de alto valor, incluida la fabricación de semiconductores y las tecnologías aeroespaciales. Este artículo profundiza en el proceso de deposición química de va......
Leer másLa deposición química de vapor (CVD) es una técnica versátil de deposición de películas delgadas ampliamente empleada en la industria de semiconductores para fabricar películas delgadas conformadas de alta calidad sobre diversos sustratos. Este proceso implica reacciones químicas de precursores gase......
Leer másEste artículo profundiza en el uso y la trayectoria futura de los barcos de carburo de silicio (SiC) en relación con los barcos de cuarzo dentro de la industria de los semiconductores, centrándose específicamente en sus aplicaciones en la fabricación de células solares.
Leer másEl crecimiento de obleas epitaxiales de nitruro de galio (GaN) es un proceso complejo que a menudo utiliza un método de dos pasos. Este método implica varias etapas críticas, que incluyen horneado a alta temperatura, crecimiento de la capa amortiguadora, recristalización y recocido. Al controlar met......
Leer másTanto las obleas epitaxiales como las difusas son materiales esenciales en la fabricación de semiconductores, pero difieren significativamente en sus procesos de fabricación y aplicaciones de destino. Este artículo profundiza en las distinciones clave entre estos tipos de obleas.
Leer másEl grabado es un proceso esencial en la fabricación de semiconductores. Este proceso se puede clasificar en dos tipos: grabado en seco y grabado en húmedo. Cada técnica tiene sus propias ventajas y limitaciones, por lo que es fundamental comprender las diferencias entre ellas. Entonces, ¿cómo se eli......
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