Sobre nosotros

Semicorex Advanced Material Technology Co., Ltd es un proveedor líder de alta calidad de productos de revestimiento SiC de deposición química de vapor (CVD) de primer nivel en China. Estamos comprometidos con la investigación y el desarrollo de materiales semiconductores innovadores, en particular de la tecnología de revestimiento de SiC y su aplicación en la industria de los semiconductores. Ofrecemos una amplia gama de productos de alta calidad comoSusceptores de grafito recubiertos de SiC, recubierto de carburo de silicio, susceptores de epitaxia ultravioleta profunda, Calentadores de sustrato CVD, Portadores de obleas CVD SiC, barcos de obleas, así comocomponentes semiconductoresyproductos cerámicos de carburo de silicio.

La película delgada de SiC utilizada en la epitaxia del chip LED y los sustratos monocristalinos de silicio tiene una fase cúbica con la misma estructura de red cristalina que el diamante, y solo es superada por el diamante en dureza. El SiC es un material semiconductor de banda ancha ampliamente reconocido con un enorme potencial de aplicación en la industria de la electrónica de semiconductores y tiene excelentes propiedades físicas y químicas, como alta conductividad térmica, bajo coeficiente de expansión térmica y resistencia a altas temperaturas y resistencia a la corrosión.

En la producción de dispositivos electrónicos, las obleas deben pasar por varios pasos, incluida la epitaxia de silicio, en la que las obleas se transportan sobre susceptores de grafito. La calidad y las propiedades de los susceptores juegan un papel crucial en la calidad de la capa epitaxial de la oblea. La base de grafito es uno de los componentes centrales del equipo MOCVD y es el portador y calentador del sustrato. Sus parámetros de rendimiento térmicamente estables, como la uniformidad térmica, juegan un papel decisivo en la calidad del crecimiento del material epitaxial y determinan directamente la uniformidad y la pureza promedio.

En Semicorex, utilizamos CVD para fabricar películas densas de β-SiC en grafito isostático de alta resistencia, que tiene una mayor pureza en comparación con los materiales de SiC sinterizados. Nuestros productos, como los susceptores de grafito recubiertos con SiC, otorgan a la base de grafito propiedades especiales, lo que hace que la superficie de la base de grafito sea compacta, lisa y no porosa, resistente al calor superior, uniformidad térmica, resistente a la corrosión y resistente a la oxidación.

La tecnología de recubrimiento de SiC ha ganado un uso generalizado, particularmente en el crecimiento de portadores epitaxiales de LED y la epitaxia de un solo cristal de Si. Con el rápido crecimiento de la industria de los semiconductores, la demanda de tecnología y productos de revestimiento de SiC ha aumentado significativamente. Nuestros productos de revestimiento de SiC tienen una amplia gama de aplicaciones en la industria aeroespacial, fotovoltaica, energía nuclear, trenes de alta velocidad, automoción y otras industrias.

Aplicación del producto

LED IC epitaxia

Epitaxia de silicio monocristalino

Portadores de obleas RTP/TRA

Grabado ICP/PSS

grabado con plasma

epitaxia de SiC

Epitaxia de silicio monocristalino

Epitaxia de GaN a base de silicio

Epitaxia ultravioleta profunda

grabado de semiconductores

industria fotovoltaica

Sistema CVD epitaxial SiC

Equipo de crecimiento de película epitaxial SiC

reactor MOCVD

sistema MOCVD

equipo CVD

sistemas PECVD

sistemas LPE

Sistemas Aixtron

Sistemas Nuflare

Sistemas TEL CVD

Sistemas Vecco

sistemas ETI