El recubrimiento de SiC es una capa delgada sobre el susceptor a través del proceso de deposición química de vapor (CVD). El material de carburo de silicio proporciona una serie de ventajas sobre el silicio, incluyendo 10 veces la intensidad del campo eléctrico de ruptura, 3 veces la banda prohibida, lo que proporciona al material resistencia química y a altas temperaturas, excelente resistencia al desgaste y conductividad térmica.
Semicorex brinda un servicio personalizado, lo ayuda a innovar con componentes que duran más, reducen los tiempos de ciclo y mejoran el rendimiento.
El recubrimiento de SiC posee varias ventajas únicas
Resistencia a altas temperaturas: el susceptor recubierto de CVD SiC puede soportar altas temperaturas de hasta 1600 °C sin sufrir una degradación térmica significativa.
Resistencia química: el recubrimiento de carburo de silicio proporciona una excelente resistencia a una amplia gama de productos químicos, incluidos ácidos, álcalis y disolventes orgánicos.
Resistencia al desgaste: El recubrimiento de SiC proporciona al material una excelente resistencia al desgaste, lo que lo hace adecuado para aplicaciones que implican un alto desgaste.
Conductividad térmica: el recubrimiento CVD SiC proporciona al material una alta conductividad térmica, lo que lo hace adecuado para su uso en aplicaciones de alta temperatura que requieren una transferencia de calor eficiente.
Alta resistencia y rigidez: el susceptor recubierto de carburo de silicio proporciona al material alta resistencia y rigidez, lo que lo hace adecuado para aplicaciones que requieren alta resistencia mecánica.
El recubrimiento de SiC se utiliza en diversas aplicaciones.
Fabricación de LED: El susceptor recubierto de CVD SiC se utiliza en la fabricación de varios tipos de LED, incluidos LED azules y verdes, LED UV y LED UV profundo, debido a su alta conductividad térmica y resistencia química.
Comunicación móvil: el susceptor recubierto de SiC CVD es una parte crucial del HEMT para completar el proceso epitaxial de GaN-on-SiC.
Procesamiento de semiconductores: el susceptor recubierto de SiC CVD se utiliza en la industria de semiconductores para diversas aplicaciones, incluido el procesamiento de obleas y el crecimiento epitaxial.
Componentes de grafito recubiertos de SiC
Fabricado con grafito con revestimiento de carburo de silicio (SiC), el revestimiento se aplica mediante un método CVD a grados específicos de grafito de alta densidad, por lo que puede funcionar en hornos de alta temperatura a más de 3000 °C en una atmósfera inerte y 2200 °C en vacío. .
Las propiedades especiales y la baja masa del material permiten velocidades de calentamiento rápidas, distribución uniforme de la temperatura y una precisión de control excepcional.
Datos del material del recubrimiento Semicorex SiC
Propiedades típicas |
Unidades |
Valores |
Estructura |
|
Fase β de la FCC |
Orientación |
Fracción (%) |
111 preferido |
densidad aparente |
gramos/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Capacidad calorífica |
J kg-1 K-1 |
640 |
Expansión térmica 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Módulo de Young |
Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃) |
430 |
Tamaño de grano |
µm |
2~10 |
Temperatura de sublimación |
℃ |
2700 |
Fuerza flexural |
MPa (RT 4 puntos) |
415 |
Conductividad térmica |
(W/mK) |
300 |
Conclusión El susceptor recubierto de SiC CVD es un material compuesto que combina las propiedades de un susceptor y del carburo de silicio. Este material posee propiedades únicas, que incluyen resistencia química y a altas temperaturas, excelente resistencia al desgaste, alta conductividad térmica y alta resistencia y rigidez. Estas propiedades lo convierten en un material atractivo para diversas aplicaciones de alta temperatura, incluido el procesamiento de semiconductores, el procesamiento químico, el tratamiento térmico, la fabricación de células solares y la fabricación de LED.
El portador de obleas de grabado semicorex con recubrimiento CVD SIC es una solución avanzada de alto rendimiento adaptada para exigentes aplicaciones de grabado de semiconductores. Su estabilidad térmica superior, resistencia química y durabilidad mecánica lo convierten en un componente esencial en la fabricación moderna de obleas, asegurando una alta eficiencia, confiabilidad y rentabilidad para los fabricantes de semiconductores en todo el mundo.*
Leer másEnviar ConsultaLa placa satelital semicorex es un componente crítico utilizado en los reactores de epitaxia de semiconductores, diseñados específicamente para equipos Aixtron G5+. Semicorex combina experiencia avanzada en material con tecnología de recubrimiento de vanguardia para ofrecer soluciones confiables de alto rendimiento adaptadas a aplicaciones industriales exigentes.*
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor planetario semicorex es un componente de grafito de alta pureza con un recubrimiento SIC, diseñado para reactores de Aixtron G5+ para garantizar una distribución de calor uniforme, resistencia química y crecimiento de la capa epitaxial de alta precisión**
Leer másEnviar ConsultaEl recubrimiento semicorex sic parte es un componente de grafito recubierto de SIC esencial para la conducción de flujo de aire uniforme en el proceso de epitaxia SIC. Semicorex ofrece soluciones con motor de precisión con una calidad inigualable, lo que garantiza un rendimiento óptimo para la fabricación de semiconductores.*
Leer másEnviar ConsultaEl componente de recubrimiento SEMICOREX SIC es un material esencial diseñado para cumplir con los requisitos exigentes del proceso de epitaxia SIC, una etapa fundamental en la fabricación de semiconductores. Desempeña un papel fundamental en la optimización del entorno de crecimiento para los cristales de carburo de silicio (SIC), contribuyendo significativamente a la calidad y el rendimiento del producto final.*
Leer másEnviar ConsultaLa pieza de LPE semicorex es un componente recubierto de SIC específicamente diseñado para el proceso de epitaxia SIC, que ofrece una estabilidad térmica excepcional y resistencia química para garantizar una operación eficiente en entornos a alta temperatura y hostiles. Al elegir productos semicorex, se beneficia de soluciones personalizadas de alta precisión y duración que optimizan el proceso de crecimiento de la epitaxia SIC y mejoran la eficiencia de producción.*
Leer másEnviar Consulta