Tubos de horno recubiertos de SiC CVD

Semicorex CVD recubierto de SiCtubos de hornoSon tubos de proceso de gran diámetro que proporcionan una cámara de reacción estable para el tratamiento a alta temperatura de obleas semiconductoras. Están diseñados para funcionar en atmósferas que contienen oxígeno (gas reactivo), nitrógeno (gas protector) y pequeñas cantidades de cloruro de hidrógeno, con una temperatura de funcionamiento estable de alrededor de 1250 grados Celsius.

Las ventajas de los tubos de horno recubiertos de SiC CVD Semicorex

1. Tecnología de moldeo avanzada y fabricación personalizada flexible

Formado mediante tecnología de impresión 3D, SemicorexCVD SiC-Los tubos del horno recubiertos presentan una estructura cerámica integral sin costuras y sin áreas débiles. Esta tecnología de moldeo garantiza un sellado hermético a los gases excepcional, que previene eficazmente los contaminantes externos y mantiene la temperatura, la presión y los entornos atmosféricos necesarios para el procesamiento de obleas semiconductoras.

Además, la tecnología de impresión 3D también permite la producción de formas complejas y un control dimensional preciso. La producción personalizada está disponible para diámetro, longitud, espesor de pared y tolerancias de acuerdo con diversos requisitos para garantizar la compatibilidad total con los hornos verticales u horizontales de los clientes.

2. Selección meticulosa de materiales y control de limpieza.

Los tubos de horno Semicorex CVD SiC recubiertos están fabricados con material de alta pureza de grado semiconductor cuidadosamente seleccionado. El contenido de impurezas de su matriz se controla por debajo de 300 PPM y el contenido de impurezas del recubrimiento CVD SiC se limita a menos de 5 PPM. Este estricto control de pureza reduce significativamente la contaminación de las obleas causada por las impurezas metálicas que precipitan en condiciones operativas de alta temperatura, lo que mejora en gran medida el rendimiento y el rendimiento de los dispositivos semiconductores finales. Además, el uso del recubrimiento CVD SiC mejora la resistencia a altas temperaturas, la resistencia a la corrosión química y la estabilidad térmica de los tubos de horno recubiertos con CVD SiC de Semicorex, extendiendo así en gran medida su vida útil en condiciones operativas adversas.

Con tantas ventajas, los tubos de horno recubiertos de SiC CVD de Semicorex pueden proporcionar un espacio de reacción estable, adecuado y ultralimpio para el procesamiento de obleas semiconductoras. La distribución constante de la temperatura y la atmósfera de gas estable dentro de los hornos, posibles gracias a los tubos de horno recubiertos de SiC CVD de Semicorex, ayudan a lograr una difusión de dopaje, oxidación térmica, recocido y deposición de películas delgadas más precisas.