Electrodos de silicio monocristalino

Electrodos de silicio monocristalinoPor lo general, se instalan en la parte superior de la cámara de grabado y sirven como electrodo superior. La superficie de los electrodos de silicio monocristalino presenta microagujeros distribuidos uniformemente, que pueden suministrar gas de grabado de manera uniforme a la cámara de reacción. Durante el proceso de grabado, trabajan con el electrodo inferior para generar un campo eléctrico uniforme, lo que contribuye a proporcionar unas condiciones operativas ideales para el grabado de precisión.

Selección cuidadosa de materiales

Semicorex selecciona silicio monocristalino premium cultivado en MCZ para fabricar electrodos de silicio monocristalino, ofreciendo rendimiento y calidad de producto líderes en la industria.

1. Pureza ultraalta

Los electrodos de silicio monocristalino Semicorex presentan una pureza ultra alta de más del 99,9999999 %, lo que significa que el contenido de impurezas metálicas internas es extremadamente bajo.

2. Uniformidad de resistencia excepcional

A diferencia del silicio monocristalino CZ convencional, el silicio monocristalino cultivado con MCZ utilizado por Semicorex logra una uniformidad de resistividad inferior al 5%. Es de baja resolución. se controla por debajo de 0,02 Ω·cm, resolución media. está entre 0,2 y 25Ω·cm, y alta resolución. está entre 70-90 Ω·cm (la personalización está disponible a pedido).

3. Excelente estructura material

El silicio monocristalino cultivado mediante el método MCZ ofrece una estructura más estable y menos defectos, lo que hace que los electrodos de silicio monocristalino de Semicorex ofrezcan una notable resistencia a la corrosión por plasma y soporten duras condiciones operativas de grabado.

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Precisión de procesamiento de alto nivel

semicorexsilicio monocristalinoLos electrodos se fabrican mediante un proceso de producción completo, desde el lingote de silicio hasta el producto terminado, que incluye corte, rectificado de superficies, perforación, grabado en húmedo y pulido de superficies. Semicorex mantiene un estricto control de precisión en cada paso para garantizar que el diámetro, el espesor, la planaridad de la superficie, el espaciado de los orificios y la apertura de los electrodos se mantengan dentro de las tolerancias ideales.

1. Procesamiento de microagujeros

Los microagujeros de los electrodos de silicio monocristalino presentan un espaciado uniforme y diámetros constantes (que van de 0,2 a 0,8 mm), con paredes interiores lisas y sin rebabas. Esto garantiza efectivamente un suministro uniforme y estable de gas de grabado, asegurando así la uniformidad y precisión del grabado de obleas.

2. Precisión del procesamiento

La precisión del procesamiento de los electrodos de silicio monocristalino Semicorex se controla dentro de 0,3 mm, y su precisión de pulido se puede controlar estrictamente por debajo de 0,1 µm y el pulido fino es inferior a 1,6 µm.