Como fabricante profesional, nos gustaría ofrecerle componentes semiconductores. Semicorex es su socio para mejorar el procesamiento de semiconductores. Nuestros recubrimientos de carburo de silicio son densos, resistentes a altas temperaturas y a productos químicos, y a menudo se utilizan en todo el ciclo de fabricación de semiconductores, incluido el procesamiento de obleas y obleas de semiconductores y la fabricación de semiconductores.
Los componentes recubiertos de SiC de alta pureza son cruciales para los procesos en el semiconductor. Nuestra oferta abarca desde consumibles de grafito para zonas calientes de crecimiento de cristales (calentadores, susceptores de crisol, aislamiento) hasta componentes de grafito de alta precisión para equipos de procesamiento de obleas, como susceptores de grafito recubiertos de carburo de silicio para epitaxia o MOCVD.
Ventajas para los procesos de semiconductores
Las fases de deposición de películas delgadas, como la epitaxia o MOCVD, o el procesamiento de manipulación de obleas, como el grabado o el implante de iones, deben soportar altas temperaturas y una limpieza química intensa. Semicorex suministra una construcción de grafito recubierto de carburo de silicio (SiC) de alta pureza que proporciona una resistencia al calor superior y una resistencia química duradera, incluso uniformidad térmica para un espesor y resistencia constantes de la capa Epi.
Tapas de cámara →
Las tapas de cámara utilizadas en el procesamiento de crecimiento de cristales y manipulación de obleas deben soportar altas temperaturas y una limpieza química agresiva.
Efector final →
El efector final es la mano del robot que mueve las obleas semiconductoras entre posiciones en el equipo de procesamiento de obleas y los soportes.
Anillos de entrada →
Anillo de entrada de gas recubierto de SiC mediante equipo MOCVD El crecimiento compuesto tiene una alta resistencia al calor y a la corrosión, lo que tiene una gran estabilidad en ambientes extremos.
Anillo de enfoque →
Semicorex suministra el anillo de enfoque recubierto de carburo de silicio que es realmente estable para RTA, RTP o limpieza con productos químicos agresivos.
Mandril de oblea →
Los mandriles de oblea de vacío cerámicos ultraplanos Semicorex están recubiertos con SiC de alta pureza en el proceso de manipulación de oblea.
Los dedos SEC semicorex son componentes de ingeniería de precisión hechas de carburo de silicio de alta pureza, diseñados para funcionar bajo las demandas extremas de la fabricación de semiconductores. Elegir semicorex significa acceso a experiencia avanzada en materiales, procesamiento de alta precisión y soluciones confiables confiables en aplicaciones críticas de manejo de obleas*.
Leer másEnviar ConsultaLa tapa SEMCOREX SIC es un componente de carburo de silicio de alta pureza diseñado para entornos de procesamiento de semiconductores extremos. Elegir semicorex significa garantizar la calidad de material inigualable, la ingeniería de precisión y las soluciones personalizadas con confianza por los principales fabricantes de semiconductores en todo el mundo.*
Leer másEnviar ConsultaLos electrodos de silicio semicorex son componentes de alto rendimiento que combinan una conducción eléctrica eficiente con capacidades precisas de distribución de gases. Elegir semicorex significa asociarse con un experto confiable que ofrece técnicas de fabricación avanzadas de calidad superior y soluciones de electrodo de silicio confiables y personalizables adaptadas a sus necesidades específicas.*
Leer másEnviar ConsultaLos barcos de silicio semicorex son portadores de silicio de alta pureza diseñados para el crecimiento de cristales, los procesos de fabricación de semiconductores y fotovoltaicos, proporcionando un control excepcional de estabilidad térmica y contaminación. Elegir semicorex significa acceder a barcos de ingeniería de precisión hechas bajo un estricto control de calidad para garantizar un rendimiento constante en los entornos más exigentes.*
Leer másEnviar ConsultaEl recubrimiento CVD SiC del calentador de recubrimiento Semicorex SiC ofrece un rendimiento superior en la protección de los elementos calefactores de los ambientes hostiles, corrosivos y reactivos que a menudo se encuentran en procesos como la deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD) y el crecimiento epitaxial.**
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha metálico, conocido como placa de distribución de gas o cabezal de ducha de gas, es un componente crítico ampliamente utilizado en los procesos de fabricación de semiconductores. Su función principal es distribuir uniformemente los gases en una cámara de reacción, asegurando que los materiales semiconductores entren en contacto uniforme con el proceso. gases.**
Leer másEnviar Consulta