Grafito recubierto de carbono de silicio ICP

El grafito recubierto de carbono de silicio ICP de Semicorex es la opción ideal para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto cuenta con una resistencia superior al calor y la corrosión, uniformidad térmica uniforme y patrones de flujo de gas laminar óptimos.

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Descripción del Producto

Los portadores de obleas utilizados en el procesamiento del crecimiento epitaxial deben soportar altas temperaturas y una limpieza química intensa. Los susceptores de grafito recubiertos de carbono de silicio Semicorex ICP están diseñados específicamente para estas exigentes aplicaciones de equipos de epitaxia. Nuestro producto está diseñado para soportar altas temperaturas y limpieza química agresiva, lo que garantiza longevidad y resultados óptimos.
Nuestro grafito recubierto de carbono de silicio ICP está diseñado para lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar, asegurando la uniformidad del perfil térmico. Esto ayuda a prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas, asegurando un crecimiento epitaxial de alta calidad en el chip de la oblea.
Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestro grafito recubierto de carbono de silicio ICP.

Parámetros del grafito recubierto de carbono de silicio ICP

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	µm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300

Características del grafito recubierto de carbono de silicio ICP

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.

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