Soporte de oblea para proceso de grabado ICP

El soporte de obleas de Semicorex para el proceso de grabado ICP es la elección perfecta para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto cuenta con una resistencia superior al calor y la corrosión, uniformidad térmica uniforme y patrones de flujo de gas laminar óptimos para obtener resultados consistentes y confiables.

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Descripción del Producto

Elija el soporte para obleas de Semicorex para el proceso de grabado ICP para obtener un rendimiento confiable y consistente en el manejo de obleas y los procesos de deposición de películas delgadas. Nuestro producto ofrece resistencia a la oxidación a altas temperaturas, alta pureza y resistencia a la corrosión de reactivos ácidos, alcalinos, salinos y orgánicos.
Nuestro soporte de oblea para el proceso de grabado ICP está diseñado para lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar, asegurando la uniformidad del perfil térmico. Esto ayuda a prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas, asegurando un crecimiento epitaxial de alta calidad en el chip de la oblea.
Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestro soporte de oblea para el proceso de grabado ICP.

Parámetros del soporte de oblea para el proceso de grabado ICP

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	µm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300

Características del soporte de oblea para el proceso de grabado ICP

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.

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