Anillos sólidos de SiC CVD

​Semicorex sólidoCVD SiCLos anillos se montan comúnmente dentro de las cámaras de reacción de los equipos de grabado, rodeando los mandriles electrostáticos para servir como barrera del proceso y guía de energía. Pueden concentrar el plasma dentro de la cámara alrededor de la oblea y evitar la difusión del plasma hacia afuera, proporcionando así un campo de energía adecuado para el proceso de grabado preciso. Este campo de energía uniforme y estable puede mitigar eficazmente riesgos como defectos de la oblea, deriva del proceso y pérdida de rendimiento de los dispositivos semiconductores causadas por una distribución desigual de la energía y la distorsión del plasma en el borde de la oblea.

Excelentes ventajas materiales.

Los anillos sólidos de SiC CVD de Semicorex se fabrican a partir de SiC CVD de alta pureza, lo que ofrece excelentes ventajas de material para cumplir plenamente con los estrictos requisitos de alta limpieza y alta resistencia a la corrosión en entornos de grabado de semiconductores.

1. Alta pureza

La pureza de los anillos sólidos CVD SiC de Semicorex puede superar el 99,9999 %, lo que significa que los anillos están casi libres de impurezas internas. Esta excepcional pureza del material evita en gran medida la contaminación no deseada de las obleas semiconductoras y las cámaras de proceso debido a la liberación de impurezas durante los procesos de grabado de semiconductores.

2. Alta resistencia a la corrosión

semicorexanillos sólidos CVD SiCpueden mantener la integridad estructural y la estabilidad del rendimiento incluso cuando están expuestos a ácidos fuertes, álcalis y plasma debido a la resistencia superior a la corrosión del CVD SiC, lo que los convierte en las soluciones ideales para entornos hostiles de procesamiento de grabado.

3. Rendimiento confiable de gestión térmica

CVD SiC presenta una alta conductividad térmica y un coeficiente de expansión térmica mínimo, lo que hace que los anillos sólidos de CVD SiC de Semicorex logren una rápida disipación del calor y conserven una excelente estabilidad dimensional durante el funcionamiento.

4. Uniformidad de resistencia excepcional

Los anillos sólidos CVD SiC de Semicorex ofrecen una uniformidad de resistencia excepcional con RRG < 5 %.

Rangos de resistividad: Baja Res. (<0,02 Ω·cm), Res. media. (0,2–25 Ω·cm), alta resolución. (>100 Ω·cm).

Control de calidad preciso

Los anillos sólidos CVD SiC de Semicorex se procesan e inspeccionan bajo rigurosos estándares para cumplir plenamente con los estrictos requisitos de precisión y calidad de los campos de semiconductores y microelectrónica.

Tratamiento superficial: La precisión del pulido es Ra <0,1 µm; La precisión de molienda fina es Ra > 0,1 µm.

La precisión del procesamiento se controla dentro de ≤ 0,03 mm

Inspección de calidad: Los anillos sólidos CVD SiC de Semicorex se someterán a mediciones dimensionales, pruebas de resistividad e inspección visual para garantizar que el producto esté libre de astillas, rayones, grietas, manchas y otros defectos.