Cabezal de ducha de grafito recubierto de CVD SiC

En un aparato de plasma para grabado y deposición química de vapor (CVD) de materiales en obleas, los gases de proceso se suministran a una cámara de proceso a través de un cabezal de ducha de grafito recubierto de SiC CVD. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

El cabezal de ducha de grafito recubierto con CVD SiC (carburo de silicio por deposición química de vapor) de Semicorex es un componente especializado que se utiliza en diversos procesos industriales, como la deposición química de vapor (CVD) y la deposición química de vapor mejorada con plasma (PECVD). Desempeña un papel crucial en la entrega de gases precursores o especies reactivas a la superficie de un sustrato durante estos procesos de deposición.

El cabezal de ducha de grafito recubierto de SiC CVD está hecho de grafito de alta pureza y recubierto con una fina capa de SiC mediante el método CVD. El cabezal de ducha de grafito recubierto de CVD SiC combina las propiedades beneficiosas del grafito y el SiC, lo que lo convierte en un componente esencial en diversos procesos de deposición donde se requiere una distribución precisa y uniforme del gas, junto con resistencia a altas temperaturas y ambientes químicos.

Características:

Resistencia química

Estabilidad térmica

Superficie lisa y uniforme

Contaminación reducida

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