Cabezal de ducha CVD-SiC

El cabezal de ducha Semicorex CVD-SiC proporciona durabilidad, excelente gestión térmica y resistencia a la degradación química, lo que lo convierte en una opción adecuada para procesos CVD exigentes en la industria de semiconductores. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

En el contexto de un cabezal de ducha CVD, un cabezal de ducha CVD-SiC generalmente está diseñado para distribuir uniformemente los gases precursores sobre la superficie del sustrato durante el proceso CVD. El cabezal de ducha suele estar situado encima del sustrato y los gases precursores fluyen a través de pequeños orificios o boquillas en su superficie.

El material CVD-SiC utilizado en el cabezal de ducha ofrece varias ventajas. Su alta conductividad térmica ayuda a disipar el calor generado durante el proceso CVD, asegurando una distribución uniforme de la temperatura en todo el sustrato. Además, la estabilidad química del SiC le permite resistir gases corrosivos y entornos hostiles que se encuentran comúnmente en los procesos CVD.

El diseño de un cabezal de ducha CVD-SiC puede variar según el sistema CVD específico y los requisitos del proceso. Sin embargo, normalmente consta de una placa o componente en forma de disco con una serie de orificios o ranuras perforados con precisión. El patrón de orificios y la geometría están cuidadosamente diseñados para garantizar una distribución uniforme del gas y caudales en toda la superficie del sustrato.