Horno de vacío CVD y CVI

Semicorex es un fabricante y proveedor a gran escala de productos recubiertos de carburo de silicio en China. Ofrecemos soluciones de hornos personalizadas. Nuestro horno de vacío CVD y CVI tiene una buena ventaja de precio y cubre muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo.

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Descripción del Producto

El horno de vacío Semicorex CVD y CVI es una herramienta de alta calidad diseñada para procesos de deposición química de vapor (CVD). La reacción alcanza temperaturas de hasta 2200°C. Es capaz de depositar una amplia gama de materiales, incluidos carburo de silicio, nitruro de boro, grafeno y más. El horno CVD tiene un diseño robusto y está fabricado con materiales de alta calidad, lo que garantiza confiabilidad y durabilidad para un uso a largo plazo. Tiene estructuras tanto horizontales como verticales.

Solicitud:Disco de freno compuesto C/C, crisol, molde, etc.

Características del horno de vacío Semicorex CVD y CVI

1.Diseño robusto fabricado con materiales de alta calidad para uso a largo plazo;

2.Suministro de gas controlado con precisión mediante el uso de controladores de flujo másico y válvulas de alta calidad;

3.Equipado con características de seguridad como protección contra sobrecalentamiento y detección de fugas de gas para un funcionamiento seguro y confiable;

4.Utilizando múltiples zonas de control de temperatura, gran uniformidad de temperatura;

5.Cámara de deposición especialmente diseñada con buen efecto de sellado y excelente rendimiento anticontaminación;

6.Utilizando múltiples canales de deposición con flujo de gas uniforme, sin rincones muertos de deposición y superficie de deposición perfecta;

7.Tiene tratamiento para el alquitrán, polvo sólido y gases orgánicos durante el proceso de deposición.

Características opcionales:

•Puerta del horno: tornillo/hidráulico/tipo de elevación manual; apertura abatible/apertura paralela (tamaño grande

puerta del horno); Ajuste manual/ajuste automático con anillo de bloqueo

• Recipiente del horno: todo acero al carbono/capa interna de acero inoxidable/todo acero inoxidable

•Zona caliente del horno: fieltro de carbono blando/fieltro de grafito blando/fieltro compuesto rígido/CFC

•Elemento calefactor y mufla: grafito de prensa isostática/grafito de alta pureza, resistencia y densidad/grafito de tamaño fino

• Sistema de gas de proceso: caudalímetro volumétrico/másico

• Termopar: tipo K/tipo N/tipo C/tipo S

Especificaciones del horno CVD
Modelo	Tamaño de la zona de trabajo (Ancho × Alto × Largo) mm	Máx. Temperatura (°C)	Temperatura Uniformidad (°C)	Vacío máximo (Pa)	Tasa de aumento de presión (Pa/h)
LFH-6900-C	600×600×900	1500	±7,5	1-100	0.67
LFH-10015-C	1000×1000×1500	1500	±7,5	1-100	0.67
LFH-1220-C	1200×1200×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-1530-C	1500×1500×3000	1500	±10	1-100	0.67
LFH-2535-C	2500×2000×3500	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D3050-C	φ300×500	1500	±5	1-100	0.67
LFV-D6080-C	φ600×800	1500	±7,5	1-100	0.67
LFV-D8120-C	φ800×1200	1500	±7,5	1-100	0.67
LFV-D11-C	ø1100×2000	1500	±10	1-100	0.67
LFV-D26-C	φ2600×3200	1500	±10	1-100	0.67

*Los parámetros anteriores se pueden ajustar a los requisitos del proceso, no son un estándar de aceptación ni una especificación detallada. se harán constar en la propuesta técnica y en los acuerdos.