Hornos de deposición de vapor químico CVD

Los hornos de deposición química de vapor Semicorex CVD diseñados para CVD y CVI se utilizan para depositar materiales sobre un sustrato. La reacción alcanza temperaturas de hasta 2200°C. Los controles de flujo másico y las válvulas moduladoras coordinan los gases reactivos y portadores como N, H, Ar, CO2, metano, tetracloruro de silicio, metiltriclorosilano y amoníaco. Los materiales depositados incluyen carburo de silicio, carbón pirolítico, nitruro de boro, seleniuro de zinc y sulfuro de zinc. Los hornos de deposición química de vapor CVD tienen estructuras tanto horizontales como verticales.

Solicitud:Recubrimiento de SiC para material compuesto C/C, recubrimiento de SiC para grafito, recubrimiento de SiC, BN y ZrC para fibra, etc.

Características de los hornos de deposición química de vapor Semicorex CVD

1.Diseño robusto fabricado con materiales de alta calidad para uso a largo plazo;

2.Suministro de gas controlado con precisión mediante el uso de controladores de flujo másico y válvulas de alta calidad;

3.Equipado con características de seguridad como protección contra sobrecalentamiento y detección de fugas de gas para un funcionamiento seguro y confiable;

4.Utilizando múltiples zonas de control de temperatura, gran uniformidad de temperatura;

5.Cámara de deposición especialmente diseñada con buen efecto de sellado y excelente rendimiento anticontaminación;

6.Utilizando múltiples canales de deposición con flujo de gas uniforme, sin rincones muertos de deposición y superficie de deposición perfecta;

7.Tiene tratamiento para el alquitrán, polvo sólido y gases orgánicos durante el proceso de deposición.

*Los parámetros anteriores se pueden ajustar a los requisitos del proceso, no son un estándar de aceptación ni una especificación detallada. se harán constar en la propuesta técnica y en los acuerdos.