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Productos
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Portador de grabado PSS recubierto de SiC
Los portadores de obleas utilizados en el procesamiento de crecimiento epixial y manipulación de obleas deben soportar altas temperaturas y una limpieza química agresiva. Portador de grabado PSS recubierto de SiC Semicorex diseñado específicamente para estas exigentes aplicaciones de equipos de epitaxia. Nuestros productos tienen una buena ventaja de precio y cubren muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
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Susceptor de barril recubierto de SiC para crecimiento epitaxial de LPE
El susceptor de barril recubierto de SiC Semicorex para crecimiento epitaxial de LPE es un producto de alto rendimiento diseñado para proporcionar un rendimiento consistente y confiable durante un período prolongado. Su perfil térmico uniforme, su patrón de flujo de gas laminar y su prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de capas epitaxiales de alta calidad en chips de obleas. Su personalización y rentabilidad lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
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Sistema Epi del receptor de barril
Semicorex Barrel Susceptor Epi System es un producto de alta calidad que ofrece una adhesión de recubrimiento superior, alta pureza y resistencia a la oxidación a altas temperaturas. Su perfil térmico uniforme, su patrón de flujo de gas laminar y su prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de capas epixiales en chips de obleas. Su rentabilidad y personalización lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
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Sistema de reactor de epitaxia en fase líquida (LPE)
El sistema de reactor de epitaxia en fase líquida (LPE) Semicorex es un producto innovador que ofrece un rendimiento térmico excelente, un perfil térmico uniforme y una adhesión de recubrimiento superior. Su alta pureza, resistencia a la oxidación a altas temperaturas y a la corrosión lo convierten en una opción ideal para su uso en la industria de semiconductores. Sus opciones de personalización y su rentabilidad lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
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Deposición epitaxial de CVD en reactor de barril
Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor es un producto altamente duradero y confiable para el crecimiento de capas epixiales en chips de obleas. Su resistencia a la oxidación a altas temperaturas y su alta pureza lo hacen adecuado para su uso en la industria de semiconductores. Su perfil térmico uniforme, su patrón de flujo de gas laminar y su prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de la capa epixial de alta calidad.
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Deposición epitaxial de silicio en reactor de barril
Si necesita un susceptor de grafito de alto rendimiento para su uso en aplicaciones de fabricación de semiconductores, el reactor de barril de deposición epitaxial de silicio Semicorex es la opción ideal. Su revestimiento de SiC de alta pureza y su excepcional conductividad térmica brindan propiedades superiores de protección y distribución de calor, lo que lo convierte en la opción ideal para un rendimiento confiable y consistente incluso en los entornos más desafiantes.
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