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Susceptor de barril recubierto de SiC
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Susceptor de barril recubierto de SiC

Semicorex es un fabricante y proveedor a gran escala de susceptores de barril recubiertos de SiC en China. Nos centramos en industrias de semiconductores como las capas de carburo de silicio y los semiconductores epitaxia. Nuestros productos tienen una buena ventaja de precio y cubren muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo.

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Descripción del Producto

SemicorexSusceptor de barril recubierto de SiCes un portador de grafito recubierto de SiC de alta pureza, que se utiliza en el proceso para hacer crecer la capa epitaxial en el chip de oblea, que es adecuado para muchos reactores epitaxiales. Tiene alta resistencia al calor y a la corrosión, lo que tiene una gran estabilidad en ambientes extremos.
NuestroRecubierto de SiCBarrel Susceptor también es resistente a la oxidación y corrosión a altas temperaturas, lo que lo convierte en un producto confiable y duradero. Su alto punto de fusión garantiza que pueda soportar el entorno de alta temperatura necesario para la fabricación eficiente de semiconductores.
Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestraRecubierto de SiCReceptor de barril


Parámetros deRecubierto de SiCReceptor de barril

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC

Propiedades de SiC-CVD

Estructura cristalina

Fase β de la FCC

Densidad

gramos/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamaño de grano

µm

2~10

Pureza química

%

99.99995

Capacidad calorífica

J kg-1 K-1

640

Temperatura de sublimación

2700

Fuerza flexural

MPa (RT 4 puntos)

415

Módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)

430

Expansión Térmica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conductividad térmica

(W/mK)

300


Características deRecubierto de SiCReceptor de barril

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.




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