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Placa de grabado ICP de carburo de silicio

Placa de grabado ICP de carburo de silicio

La placa de grabado ICP de carburo de silicio es un soporte de oblea indispensable fabricado con cerámica de carburo de silicio sinterizado de alta pureza. Especialmente diseñado por Semicorex, sirve como habilitador crucial para los sistemas de deposición y grabado de plasma acoplado inductivamente (ICP) en la industria de semiconductores de vanguardia.

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Descripción del Producto

Placa de grabado ICP de carburo de silicioes competente para brindar soporte estable y posicionamiento preciso para obleas en las operaciones de grabado, evitando de manera eficiente las reducciones en la precisión del grabado provocadas por la vibración o el desplazamiento.


La placa de grabado ICP de carburo de silicio tiene capacidades de gestión térmica. Conductividad térmica superior deCerámica SICLe da a la placa de grabado ICP de carburo de silicio la capacidad de disipar rápidamente el calor, lo que ayuda a prevenir el sobrecalentamiento local de la pieza de trabajo y garantizar la uniformidad de la temperatura de grabado, mejorando así la calidad del grabado. Las cerámicas de SiC tienen un bajo coeficiente de expansión térmica, lo que permite que la placa de grabado ICP de carburo de silicio mantenga una buena estabilidad dimensional y reduzca el desplazamiento o la deformación de la pieza de trabajo causada por la expansión térmica.


Basándose en sus excelentes propiedades de dureza y resistencia, la placa de grabado ICP de carburo de silicio muestra la capacidad de tolerar la tensión mecánica y el impacto del plasma que se encuentran durante el proceso de grabado con una deformación o daño mínimos. Esta capacidad mejora efectivamente el rendimiento y la eficiencia de producción de los dispositivos semiconductores.


El entorno operativo de ICP requiere una limpieza a nivel de semiconductores. La placa de grabado ICP de carburo de silicio de Semicorex puede cumplir plenamente con este requisito, brindando una resistencia excepcional a los gases químicos (como el cloro y el flúor) y el plasma de los entornos de grabado ICP. Esta importante característica mantiene limpio el entorno del proceso al reducir la cantidad de contaminantes liberados durante las operaciones de grabado.


Semicorex prioriza la comodidad del usuario y ofrece diseños personalizados de placa de grabado ICP de carburo de silicio que se integran perfectamente con los sistemas de grabado ICP existentes y son compatibles con varias configuraciones. Esto permite una transición sin problemas, lo que la convierte en una solución de actualización ideal para los fabricantes de equipos.


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