Tapa de la cámara de vacío MOCVD

La tapa de la cámara de vacío MOCVD utilizada en el procesamiento de crecimiento de cristales y manipulación de obleas debe soportar altas temperaturas y una limpieza química agresiva. La tapa de la cámara de vacío MOCVD recubierta de carburo de silicio Semicorex está diseñada específicamente para resistir estos entornos desafiantes. Nuestros productos tienen una buena ventaja de precio y cubren muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

Los componentes de Semicorex Graphite son grafito recubierto de SiC de alta pureza, que se utiliza en el proceso para hacer crecer el proceso de monocristal y obleas. El crecimiento del compuesto de tapa de cámara de vacío MOCVD tiene una alta resistencia al calor y a la corrosión, es duradero para experimentar una combinación de gases precursores volátiles, plasma y altas temperaturas.

En Semicorex, estamos comprometidos a brindar productos y servicios de alta calidad a nuestros clientes. Utilizamos sólo los mejores materiales y nuestros productos están diseñados para cumplir con los más altos estándares de calidad y rendimiento. Nuestra tapa para cámara de vacío MOCVD no es una excepción. Contáctenos hoy para obtener más información sobre cómo podemos ayudarlo con sus necesidades de procesamiento de obleas semiconductoras.

Parámetros de la tapa de la cámara de vacío MOCVD

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	μm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300