Susceptor MOCVD de sustrato de grafito de carburo de silicio

El susceptor MOCVD de sustrato de grafito de carburo de silicio Semicorex es la mejor opción para los fabricantes de semiconductores que buscan un soporte de alta calidad que pueda ofrecer un rendimiento y una durabilidad superiores. Su material avanzado garantiza un perfil térmico uniforme y un patrón de flujo de gas laminar, lo que proporciona obleas de alta calidad.

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Descripción del Producto

Nuestro susceptor MOCVD de sustrato de grafito de carburo de silicio es altamente puro y se fabrica mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura, lo que garantiza la uniformidad y consistencia del producto. También es altamente resistente a la corrosión, con una superficie densa y partículas finas, lo que lo hace resistente a ácidos, álcalis, sales y reactivos orgánicos. Su resistencia a la oxidación a altas temperaturas garantiza la estabilidad a altas temperaturas de hasta 1600 °C.
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Parámetros del susceptor MOCVD de sustrato de grafito de carburo de silicio

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	µm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300

Características del susceptor de grafito recubierto de SiC para MOCVD

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.
Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C
Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.
Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.
Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.
- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar
- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.
- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.

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