El mandril de vacío Semicorex SiC representa un pináculo de la ingeniería de precisión adaptada a la exigente industria de semiconductores. Elaborado a partir de sustratos de grafito y mejorado mediante técnicas de deposición química de vapor (CVD) de última generación, este dispositivo innovador integra a la perfección las propiedades incomparables del recubrimiento de carburo de silicio (SiC). Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Semicorex SiC Vacuum Chuck es una herramienta especialmente diseñada que sujeta de forma segura obleas semiconductoras durante las etapas críticas de procesamiento con la máxima estabilidad y confiabilidad. El recubrimiento CVD SiC del mandril de vacío de SiC proporciona resistencia mecánica, resistencia química y estabilidad térmica excepcionales, lo que garantiza que las delicadas obleas estén protegidas de cualquier posible daño o contaminación.
La combinación única de grafito y revestimiento de SiC del mandril de vacío de SiC ofrece una alta conductividad térmica y un coeficiente mínimo de expansión térmica. Esto permite una disipación de calor eficiente y una distribución uniforme de la temperatura en toda la superficie de la oblea. Estas características son esenciales para mantener condiciones de procesamiento óptimas y mejorar el rendimiento en los procesos de fabricación de semiconductores.
El mandril de vacío de SiC también es compatible con entornos de vacío, lo que garantiza una adhesión superior entre el mandril y la oblea. Esto elimina el riesgo de deslizamiento o desalineación durante operaciones de alta precisión. Su superficie no porosa y sus propiedades inertes previenen aún más cualquier desgasificación o contaminación por partículas, salvaguardando la pureza y la integridad del entorno de fabricación de semiconductores.
El portabrocas de vacío Semicorex SiC es una tecnología fundamental en la fabricación de semiconductores, que ofrece un rendimiento y una durabilidad incomparables para satisfacer las demandas cambiantes de la industria. Ya sea que se utilice en litografía, grabado, deposición u otros procesos críticos, esta solución avanzada continúa redefiniendo los estándares de excelencia en el manejo y procesamiento de obleas semiconductoras.