Semicorex SiC Fine Powder es un polvo ultrafino de alta calidad conocido por su pureza excepcional y distribución controlada del tamaño de partículas. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Semicorex SiC Fine Powder es un polvo ultrafino de alta calidad conocido por su pureza excepcional y distribución controlada del tamaño de partículas. Este polvo fino de SiC está compuesto predominantemente de cristales de carburo de silicio de fase alfa tipo N, lo que garantiza propiedades y rendimiento del material superiores en diversas aplicaciones.
El polvo fino de SiC exhibe altos niveles de pureza, lo que minimiza las impurezas y garantiza la consistencia en la composición del material. Diseñado con dopaje controlado de nitrógeno (N), el polvo exhibe una conductividad de tipo N, lo que lo hace adecuado para aplicaciones que requieren propiedades semiconductoras. El polvo fino de SiC presenta una distribución estrecha del tamaño de las partículas, lo que permite una dispersión uniforme y una mayor compacidad del material en diversos procesos de fabricación.
Aplicaciones:
Lapeado de cerámica, cristal, cuarzo, vidrio, etc.
Corte con sierra de hilo de silicio para semiconductores, cristal, cuarzo, etc.
Material de piedra de amolar resinoide, piedra de amolar vitrificada y piedra de amolar PVA
Material de cerámica y piezas sinterizadas.
Material de relleno radiante
Materiales de revestimiento y revestimiento compuesto
Características
Modelo | Pureza | Densidad de embalaje | D10 | D50 | D90 |
SiC-N-S | >6N | <1,7 g/cm3 | 100 μm | 300 μm | 500 μm |
SiC-N-M | >6N | <1,3g/cm3 | 500 μm | 1000 μm | 2000 μm |
SiC-N-L | >6N | <1,3g/cm3 | 1000 μm | 1500 μm | 2500 μm |
Semicorex SiC Fine Powder es una solución de material de primera calidad que ofrece una pureza excepcional, un control preciso de las propiedades y una aplicabilidad versátil en diversas industrias. Su combinación de características de alta calidad lo convierte en la opción preferida para aplicaciones exigentes en fabricación de semiconductores, cerámicas avanzadas, materiales refractarios, abrasivos y sistemas de soporte de catalizadores, entre otros.