Aleta de SiC

Semicorex SiC Fin es un componente de alto rendimiento hecho decerámica de carburo de silicio, está diseñado para su uso en sistemas de grabado y epitaxia de semiconductores. Diseñada como una pieza circular en forma de disco con varios orificios perforados de diferentes diámetros, la aleta de SiC es un componente fundamental para los materiales de patrones de flujo y la gestión de gases o efluentes líquidos durante el procesamiento de plasma o a alta temperatura. Debido a su rendimiento estructural, excelente resistencia a la corrosión y alta estabilidad térmica, la aleta de SiC es fundamental para la fabricación avanzada de semiconductores.

SiC Fin está fabricado con alta pureza.carburo de siliciopolvo mediante procesos avanzados de formación y sinterización. Por lo tanto, tiene una excelente resistencia mecánica y estabilidad en condiciones térmicas y químicas elevadas. Las propiedades físicas únicas del carburo de silicio, como alta dureza, baja expansión térmica y excelente inercia química, permiten que la aleta sea un componente estructural en entornos de plasma de alta temperatura o gas reactivo, que son característicos de los procesos de grabado y EPI.

La estructura de disco del componente, completa con orificios perforados con precisión, permite flujos controlados de gases y líquidos a lo largo de las cámaras de proceso. Dependiendo de la aplicación, los orificios se pueden configurar para gestionar el flujo de subproductos o drenaje para un ambiente limpio y estable durante el proceso de oblea. En una aplicación de epitaxia, por ejemplo, la aleta de SiC puede ayudar a dirigir los gases de proceso o los flujos de condensado, mejorando así la uniformidad de la película y minimizando la contaminación por partículas. En herramientas de grabado, es eficaz para la eliminación segura y eficiente de especies reactivas y subproductos líquidos que protegen los componentes vulnerables de la cámara de la degradación química.

Cada aleta Semicorex SiC se fabrica con tolerancias muy estrictas y se pule para ofrecer una superficie plana y una precisión dimensional excelentes. Esta precisión de fabricación garantiza un rendimiento confiable cuando se integra en sistemas complicados y conserva una funcionalidad constante durante largos períodos de operación. La aleta de SiC es compatible con todos los diseños de reactores y se puede fabricar a medida en diámetro, espesor y patrón de orificios para satisfacer las necesidades del cliente. Semicorex puede ofrecer diseños personalizados para optimizar el rendimiento de las variables del proceso, como el caudal, la geometría de la cámara y la temperatura.

Además de su funcionalidad versátil, SiC Fin tiene una durabilidad y longevidad excepcionales en comparación con otros materiales. Es altamente resistente a la oxidación, la erosión por plasma y la corrosión química, lo que reduce la frecuencia de reemplazo de sus piezas y disminuye el tiempo de inactividad del sistema. Además, la conductividad térmica del carburo de silicio permite que la capacidad de disipación de calor administre los gradientes térmicos en el dispositivo, evitando deformaciones o grietas no deseadas durante los ciclos rápidos de temperatura.

Semicorex utiliza avanzadoscerámicocapacidades de procesamiento y recubrimiento CVD para proporcionar la mayor pureza y consistencia de la aleta de SiC producida. También se inspecciona la densidad, la uniformidad de la microestructura y la perfección de la superficie de cada aleta de SiC para garantizar que cumpla con los exigentes requisitos de la industria de semiconductores. Esto da como resultado un componente que tiene integridad mecánica y robustez para un funcionamiento estable y a largo plazo en entornos extremos.

Semicorex SiC Fin es el resultado de tecnología de ingeniería y ciencia de materiales de última generación. No solo fabrica flujos de líquido y escape efectivos, sino que también contribuye a la limpieza y confiabilidad de todos los sistemas de epitaxia y grabado. Combina resistencia mecánica, estabilidad térmica y longevidad frente a la corrosión para brindar una experiencia más consistente para aplicaciones de procesamiento de semiconductores.