Con propiedades de material de alta calidad, Semicorex SiC Diffusion Boat representa una funcionalidad óptima en un amplio espectro de parámetros operativos: dureza, resiliencia y resistencia térmica y química, etc. Esta elección de material es crucial para reducir los riesgos de contaminación, proteger las obleas y resistir la Condiciones exigentes presentes en los procesos de fabricación de semiconductores. En Semicorex nos dedicamos a fabricar y suministrar barcos de difusión de SiC de alto rendimiento que fusionan calidad con rentabilidad.**
A continuación se ofrece un vistazo detallado a las ventajas de SiC Diffusion Boat:
Estabilidad estructural y resistencia térmica: Semicorex SiC Diffusion Boat ofrece una excepcional estabilidad térmica e integridad dimensional a altas temperaturas, lo que los hace muy ventajosos para su uso en aplicaciones de procesamiento y tratamiento térmico a alta temperatura.
Excelente resistencia a la corrosión: El barco de difusión de SiC demuestra una excelente resistencia a la corrosión, lo que garantiza un rendimiento prolongado en condiciones ambientales y químicas adversas.
Material de alta pureza: el barco de difusión de SiC está fabricado a partir de una matriz de alta pureza y una película de carburo de silicio, lo que previene eficazmente la introducción de impurezas y reduce la contaminación en el proceso de fabricación. Esta alta pureza contribuye significativamente a mejorar la calidad del producto.
Baja densidad: el barco de difusión de SiC posee una densidad relativamente baja en comparación con muchos otros materiales, lo que los hace livianos y fácilmente manejables durante su manipulación y procesamiento.
Aplicación versátil: el barco de difusión de SiC es ideal para componentes críticos de carga en equipos fotovoltaicos y semiconductores, particularmente en procesos de manipulación de obleas.
Utilización en hornos verticales de semiconductores: Semicorex SiC Diffusion Boat se emplea principalmente en hornos verticales de semiconductores para procesos de recocido y oxidación a alta temperatura. Esta aplicación destaca su papel crucial a la hora de facilitar estos procedimientos específicos de fabricación de semiconductores.