Brazo robótico de cerámica SiC

Cerámica de SiCbrazo robóticose utiliza en múltiples procesos de fabricación de obleas semiconductoras y desempeña un papel importante para garantizar la calidad y la eficiencia de la fabricación de obleas. Se instala comúnmente dentro y fuera de las cámaras de diversos equipos frontales de semiconductores, como máquinas de grabado, equipos de deposición, máquinas de litografía y equipos de limpieza, y participa directamente en el manejo y posicionamiento de obleas semiconductoras. 

Las obleas semiconductoras se contaminan fácilmente con partículas, por lo que sus procesos de fabricación relacionados se llevan a cabo principalmente en equipos semiconductores limpios y al vacío. En el funcionamiento real, como componente esencial de dicho equipo, el brazo robótico cerámico de SiC entra en contacto directo con las obleas semiconductoras y también debe cumplir requisitos de limpieza ultra altos. El brazo robótico cerámico de SiC de Semicorex está hecho de cerámica de carburo de silicio de alto rendimiento seguido de un acabado superficial de precisión y un tratamiento de limpieza, que puede cumplir con precisión los estrictos requisitos de limpieza y planitud de la superficie de la fabricación de semiconductores. Esto contribuye significativamente a reducir los defectos de las obleas y mejorar el rendimiento de la producción de obleas.

Cerámica de SiCEl brazo robótico es la opción óptima para procedimientos de tratamiento térmico como recocido, oxidación y difusión. Debido a la excepcional estabilidad térmica y la superior resistencia al choque térmico de los materiales de carburo de silicio, los brazos robóticos cerámicos de SiC pueden funcionar de manera confiable durante períodos prolongados de tiempo en condiciones de alta temperatura. Puede resistir la influencia de la expansión térmica y preservar su integridad estructural bajo tensión térmica, asegurando así la precisión constante del posicionamiento de la oblea.

Gracias a su sólida resistencia a gases y líquidos corrosivos, el brazo robótico cerámico de SiC puede mantener su rendimiento de manera estable incluso cuando se expone a atmósferas de proceso corrosivas agresivas, como grabado, deposición de películas delgadas e implantación de iones. Este rendimiento de resistencia a la corrosión mejora la eficiencia de la fabricación de obleas semiconductoras al reducir efectivamente el riesgo de daños a los componentes relacionados con la corrosión y reducir la necesidad de reemplazos y mantenimiento frecuentes.