Paleta voladiza de SiC

La paleta voladiza de SiC (carburo de silicio) Semicorex es un componente crucial que se utiliza en los procesos de fabricación de semiconductores, particularmente en hornos de difusión o LPCVD (deposición química de vapor a baja presión) durante procesos como la difusión y el RTP (procesamiento térmico rápido). Sirve para soportar y transportar obleas dentro del tubo de proceso de estos hornos.

La paleta voladiza de SiC Semicorex está compuesta principalmente de carburo de silicio, un material robusto y térmicamente estable conocido por su resistencia a altas temperaturas y excelentes propiedades mecánicas. Se elige SiC por su capacidad para soportar las duras condiciones que se encuentran en los entornos de proceso de alta temperatura de los hornos de semiconductores. El diseño de la paleta voladiza de SiC le permite extenderse dentro del tubo de proceso del horno mientras está firmemente anclada en un extremo fuera del tubo. Este diseño garantiza estabilidad y soporte para las obleas que se procesan y al mismo tiempo minimiza la interferencia con el ambiente térmico dentro del horno.

La paleta voladiza de SiC sirve para transportar obleas semiconductoras de forma segura dentro del tubo de proceso durante diversos procesos de alta temperatura, como difusión y RTP. Su construcción robusta garantiza que pueda soportar las temperaturas extremas y los entornos químicos que se encuentran durante estos procesos sin degradación ni fallas. Las paletas voladizas de SiC están diseñadas para ser compatibles con una amplia gama de tamaños y formas de obleas semiconductoras comúnmente utilizadas en la industria. A menudo se pueden personalizar para adaptarse a configuraciones de hornos y requisitos de proceso específicos.