Semicorex RTP Carrier para MOCVD Epitaxial Growth es ideal para aplicaciones de procesamiento de obleas de semiconductores, incluido el crecimiento epitaxial y el procesamiento de manipulación de obleas. MOCVD procesa susceptores de grafito de carbono y crisoles de cuarzo en la superficie de grafito, cerámica, etc. Nuestros productos tienen una buena ventaja de precio y cubren muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Semicorex suministra RTP Carrier para MOCVD Epitaxial Growth utilizado para soportar obleas, que es realmente estable para RTA, RTP o limpieza química agresiva. En el núcleo del proceso, los susceptores de epitaxia se someten primero al entorno de deposición, por lo que tiene una alta resistencia al calor y a la corrosión. El portador revestido de SiC también tiene una alta conductividad térmica y excelentes propiedades de distribución del calor.
Nuestro RTP Carrier para MOCVD Epitaxial Growth está diseñado para lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar, asegurando la uniformidad del perfil térmico. Esto ayuda a evitar cualquier contaminación o difusión de impurezas, asegurando un crecimiento epitaxial de alta calidad en el chip de la oblea.
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Parámetros de RTP Carrier para crecimiento epitaxial MOCVD
Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC |
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Propiedades de SiC-CVD |
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Estructura cristalina |
Fase β de la FCC |
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Densidad |
g/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamaño de grano |
μm |
2~10 |
Pureza química |
% |
99.99995 |
Capacidad calorífica |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Temperatura de sublimación |
℃ |
2700 |
Fuerza flexural |
MPa (RT 4 puntos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (curva de 4 puntos, 1300â) |
430 |
Expansión Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conductividad térmica |
(W/mK) |
300 |
Características de RTP Carrier para crecimiento epitaxial MOCVD
Grafito recubierto de SiC de alta pureza
Resistencia al calor superior y uniformidad térmica
Revestimiento de cristal SiC fino para una superficie lisa
Alta durabilidad frente a la limpieza química.
El material está diseñado para que no se produzcan grietas ni delaminación.