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Recubrimiento de SiC de alta temperatura para cámaras de grabado por plasma

Recubrimiento de SiC de alta temperatura para cámaras de grabado por plasma

Cuando se trata de procesos de manipulación de obleas como epitaxia y MOCVD, el recubrimiento de SiC de alta temperatura para cámaras de grabado por plasma de Semicorex es la mejor opción. Nuestros portadores brindan una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme y resistencia química duradera gracias a nuestro fino recubrimiento de cristal de SiC.
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Bandeja de grabado por plasma ICP

Bandeja de grabado por plasma ICP

La bandeja de grabado por plasma ICP de Semicorex está diseñada específicamente para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores proporcionan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Sistema de grabado por plasma ICP

Sistema de grabado por plasma ICP

El portador recubierto de SiC de Semicorex para el sistema de grabado por plasma ICP es una solución confiable y rentable para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Nuestros soportes cuentan con un fino revestimiento de cristal de SiC que proporciona una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme y resistencia química duradera.
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Plasma acoplado inductivamente (ICP)

Plasma acoplado inductivamente (ICP)

El susceptor recubierto de carburo de silicio de Semicorex para plasma acoplado inductivamente (ICP) está diseñado específicamente para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores garantizan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Soporte para obleas de grabado ICP

Soporte para obleas de grabado ICP

El soporte para obleas de grabado ICP de Semicorex es la solución perfecta para procesos de manipulación de obleas a alta temperatura, como epitaxia y MOCVD. Con una resistencia estable a la oxidación a altas temperaturas de hasta 1600 °C, nuestros portadores garantizan perfiles térmicos uniformes, patrones de flujo de gas laminar y evitan la contaminación o la difusión de impurezas.
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Placa portadora de grabado ICP

Placa portadora de grabado ICP

La placa portadora de grabado ICP de Semicorex es la solución perfecta para procesos exigentes de manipulación de obleas y deposición de películas delgadas. Nuestro producto proporciona una resistencia superior al calor y la corrosión, incluso uniformidad térmica y patrones de flujo de gas laminar. Con una superficie limpia y lisa, nuestro transportador es perfecto para manipular obleas impecables.
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