La placa SIC porosa semicorex es un material cerámico avanzado diseñado para aplicaciones de alta precisión, que ofrece resistencia mecánica superior, estabilidad térmica y resistencia química. *
La placa SIC porosa semicorex es un material cerámico de alto rendimiento diseñado para aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores y precisión. Diseñado con una estructura porosa finamente controlada, esta placa ofrece una resistencia mecánica excepcional, estabilidad térmica y resistencia química, lo que lo convierte en una opción ideal para su uso comoaspiradoren procesamiento de semiconductores.
Procesado por sinterización de precisión y formación de poros, la placa SIC porosa tiene una porosidad uniforme y una permeabilidad de aire optimizada, asegurando así la adsorción segura y estable de obleas delgadas, paneles de vidrio y otros sustratos delicados. La distribución del tamaño de poro cuidadosamente controlada permitirá una succión de vacío efectiva mientras mantiene sus componentes estructurales juntos hasta el último átomo, evitando prácticamente la deformación o daño para el material destinado al procesamiento posterior: las obleas.
Su excelente conductividad térmica hace que la placa SIC porosa sea uno de los mejores candidatos para la disipación de calor rápido con una distribución uniforme de la temperatura en la superficie. Esto se vuelve importante en muchos tipos de procesos de fabricación de semiconductores para mantener la estabilidad en condiciones térmicas, lo que se relaciona directamente con el rendimiento y la calidad del producto. Además, el carburo de silicio presenta un pozo de resistencia al desgaste y un nivel relativamente alto de dureza, lo que da una vida más larga para la placa, ya que el desgaste de la superficie y la contaminación se retrasan en un uso muy extendido.
La inercia química es otra característica vital de la placa SIC porosa. Exhibe una fuerte resistencia a los ácidos, álcalis y exposición al plasma, lo que lo hace bien adecuado para ambientes duros dentro de la fabricación de semiconductores, como el grabado, la deposición y las cámaras de procesamiento químico. La naturaleza no reactiva de SIC previene las interacciones químicas no deseadas, preservando la pureza de los materiales procesados y mejorar la confiabilidad de la producción.
Además, la naturaleza liviana de la SIC porosa, combinada con sus robustas propiedades mecánicas, facilita el manejo e integración fácil en la maquinaria de precisión. El bajo coeficiente de expansión térmica garantiza la estabilidad dimensional incluso bajo fluctuaciones de temperatura extrema, minimizando el riesgo de deformación o desalineación durante la operación.
La placa SIC porosa se puede personalizar para cumplir con los requisitos de aplicación específicos, incluidas las variaciones en la porosidad, el grosor y el acabado de la superficie. Las técnicas avanzadas de mecanizado y pulido se pueden aplicar para lograr superficies ultra-plato con una rugosidad mínima, mejorando aún más su rendimiento como material de mechón de vacío.
La placa de carburo de silicio poroso semicorex es un componente cerámico altamente especializado que ofrece una combinación de alta resistencia, excelente estabilidad térmica y química, y resistencia al desgaste superior. Su estructura porosa única permite una succión de vacío efectiva, asegurando un manejo seguro de obleas en las industrias semiconductores y de precisión. Como resultado, es un material esencial para aplicaciones de alta precisión donde el rendimiento, la durabilidad y la confiabilidad son primordiales.