Mandriles de SiC microporosos

Para proporcionar precisión y estabilidad superiores, así como limpieza para el procesamiento avanzado de obleas, los mandriles microporosos de SiC están construidos con carburo de silicio de muy alta pureza y tienen una estructura microporosa (o "microporo") distribuida uniformemente, lo que resulta en una distribución altamente uniforme de adsorción de vacío en una superficie de mandril totalmente utilizable. Estos mandriles están diseñados específicamente para satisfacer las rigurosas demandas de la fabricación de semiconductores, el procesamiento de semiconductores compuestos, los sistemas microelectromecánicos (MEMS) y otras industrias que requieren control de precisión.

Excelente rendimiento de los mandriles de SiC microporosos

El principal beneficio de los mandriles de SiC microporosos es su completa integración de la distribución de vacío, que se logra mediante el control de la matriz microporosa dentro del propio mandril, en lugar de utilizar ranuras y orificios perforados como los mandriles de vacío tradicionales. Al utilizar una estructura microporosa, la presión de vacío se transmite uniformemente a través de toda la superficie del mandril, proporcionando la estabilidad y uniformidad necesarias de la fuerza de sujeción para minimizar la deflexión, el daño de los bordes y la concentración de tensión local, ayudando así a evitar los riesgos asociados con obleas más delgadas y nodos de proceso avanzados.

La selección deSiccomo material para mandriles de SiC microporosos se fabrica debido a sus excepcionales características mecánicas, térmicas y químicas. Los mandriles de SiC microporosos también están diseñados para ser excepcionalmente rígidos y resistentes al desgaste, de modo que conserven su moneda de diez centavos.

Estabilidad profesional incluso bajo uso continuo. Tienen un coeficiente de expansión térmica muy bajo y una conductividad térmica muy alta; por lo tanto, pueden soportar tareas que involucran cambios rápidos de temperatura y calentamiento localizado o exposición al plasma mientras mantienen la planitud y precisión posicional de la oblea durante todo el ciclo del proceso.

La estabilidad química es una ventaja adicional de los mandriles microporosos de SiC Semicorex. Una de las ventajas clave del carburo de silicio es su capacidad para resistir la exposición a gases nocivos (incluidos gases corrosivos, ácidos y álcalis) que normalmente existen en los sistemas de plasma agresivos utilizados para la fabricación de semiconductores. El alto nivel de inercia química proporcionado por los mandriles microporosos de SiC Semicorex permite una mínima degradación de la superficie y generación de partículas cuando están en contacto con diversos procesos, lo que permite que el procesamiento en sala blanca se realice bajo límites de limpieza muy estrictos y aumenta el rendimiento y la consistencia del proceso.

Los procesos de diseño y fabricación de Semicorex están enfocados a lograr el mayor grado posible de precisión y calidad al crear cualquier mandril de SiC microporoso. Con el mandril de SiC microporoso se puede lograr una superficie plana, paralelismo y rugosidad completa, y las ranuras que normalmente existen en muchos otros tipos de mandriles estándar están ausentes de la superficie del mandril de SiC microporoso, lo que resulta en una acumulación significativamente menor de partículas y una limpieza y mantenimiento mucho más fáciles que la mayoría de los mandriles estándar. Esto mejora la confiabilidad de los mandriles de SiC microporosos para todas las aplicaciones sensibles a la contaminación.

Amplias aplicaciones

Los mandriles de SiC microporosos Semicorex se producen en muchas configuraciones personalizables para adaptarse a la amplia variedad de herramientas de proceso y aplicaciones utilizadas en la fabricación de semiconductores. Varias configuraciones disponibles incluyen varios tipos de diámetros, espesores, niveles de porosidad, interfaces de vacío y tipos de montaje. El mandril de SiC microporoso Semicorex también está diseñado para funcionar con prácticamente todos los materiales de sustrato, incluidos silicio, carburo de silicio, zafiro, nitruro de galio (GaN) y vidrio. Por lo tanto, el mandril de SiC microporoso Semicorex se puede integrar fácilmente en varios equipos OEM y plataformas de proceso que ya utilizan los clientes.

Los mandriles de SiC microporosos Semicorex ofrecen estabilidad y previsibilidad significativamente mejoradas dentro de su proceso de fabricación, así como un mayor tiempo de actividad del equipo. La adsorción de vacío constante en toda la pieza de trabajo garantiza la alineación adecuada de la oblea en todas las operaciones críticas, incluidas la litografía, el grabado, la deposición, el pulido y la inspección. La durabilidad superior y la resistencia al desgaste asociadas con el SiC microporoso conducen a tasas de reemplazo más bajas y, por lo tanto, a una reducción de los gastos de mantenimiento preventivo y los costos generales de vida asociados con estos dispositivos.

Los mandriles microporosos de SiC Semicorex presentan un método confiable y de alto rendimiento para manipular obleas de próxima generación. La combinación de una distribución uniforme del vacío con una estabilidad térmica y química superior, una excelente integridad mecánica y una capacidad de limpieza superior dan como resultado soluciones de sujeción al vacío de Semicorex que forman una parte integral del proceso avanzado de fabricación de semiconductores con consistencia, confianza y confiabilidad.