Semicorex es un fabricante y proveedor a gran escala de susceptor de grafito recubierto de carburo de silicio en China. Nos centramos en industrias de semiconductores como las capas de carburo de silicio y los semiconductores epitaxia. Nuestro anillo de entrada de gas para equipos semiconductores tiene una buena ventaja de precio y cubre muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
El anillo de entrada de gas Semicorex para equipos semiconductores está recubierto de SiC, que es un recubrimiento denso y resistente al desgaste de carburo de silicio (SiC). Tiene altas propiedades de resistencia a la corrosión y al calor, así como una excelente conductividad térmica. Aplicamos SiC en capas finas sobre el grafito mediante el proceso de deposición química de vapor (CVD).
Nuestro anillo de entrada de gas para equipos semiconductores está diseñado para lograr el mejor patrón de flujo laminar de gas, asegurando la uniformidad del perfil térmico. Esto ayuda a prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas, asegurando un crecimiento epitaxial de alta calidad en el chip de la oblea.
Contáctenos hoy para obtener más información sobre nuestro anillo de entrada de gas para equipos semiconductores.
Parámetros del anillo de entrada de gas para equipos semiconductores
Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC |
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Propiedades de SiC-CVD |
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Estructura cristalina |
Fase β de la FCC |
|
Densidad |
gramos/cm³ |
3.21 |
Dureza |
Dureza Vickers |
2500 |
Tamaño de grano |
µm |
2~10 |
Pureza química |
% |
99.99995 |
Capacidad calorífica |
J kg-1 K-1 |
640 |
Temperatura de sublimación |
℃ |
2700 |
Fuerza flexural |
MPa (RT 4 puntos) |
415 |
Módulo de Young |
Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃) |
430 |
Expansión Térmica (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Conductividad térmica |
(W/mK) |
300 |
Características del anillo de entrada de gas para equipos semiconductores
● Grafito recubierto de SiC de alta pureza
● Resistencia al calor y uniformidad térmica superiores
● Fino revestimiento de cristal de SiC para una superficie lisa
● Alta durabilidad frente a limpieza química.
● El material está diseñado para que no se produzcan grietas ni delaminación.