Semicorex es su socio para mejorar el procesamiento de semiconductores. Nuestros recubrimientos de carburo de silicio son densos, resistentes a altas temperaturas y a productos químicos, y a menudo se utilizan en todo el ciclo de fabricación de semiconductores, incluido el procesamiento de obleas y obleas de semiconductores y la fabricación de semiconductores.
Los componentes cerámicos de SiC de alta pureza son cruciales para los procesos en el semiconductor. Nuestra oferta abarca desde piezas consumibles para equipos de procesamiento de obleas, como botes de obleas de carburo de silicio, paletas en voladizo, tubos, etc. para epitaxia o MOCVD.
Ventajas para los procesos de semiconductores
Las fases de deposición de películas delgadas, como la epitaxia o MOCVD, o el procesamiento de manipulación de obleas, como el grabado o el implante de iones, deben soportar altas temperaturas y una limpieza química intensa. Semicorex suministra una construcción de carburo de silicio (SiC) de alta pureza que proporciona una resistencia al calor superior y una resistencia química duradera, incluso uniformidad térmica para un espesor y resistencia constantes de la capa Epi.
Tapas de cámara →
Las tapas de cámara utilizadas en el procesamiento de crecimiento de cristales y manipulación de obleas deben soportar altas temperaturas y una limpieza química agresiva.
Paleta voladiza →
Cantilever Paddle es un componente crucial utilizado en los procesos de fabricación de semiconductores, particularmente en hornos de difusión o LPCVD durante procesos como difusión y RTP.
Tubo de proceso →
Process Tube es un componente crucial, diseñado específicamente en diversas aplicaciones de procesamiento de semiconductores, como RTP y difusión.
Barcos de oblea →
Wafer Boat se utiliza en el procesamiento de semiconductores y ha sido meticulosamente diseñado para garantizar que las delicadas obleas se mantengan seguras durante las etapas críticas de producción.
Anillos de entrada →
Anillo de entrada de gas recubierto de SiC mediante equipo MOCVD El crecimiento compuesto tiene una alta resistencia al calor y a la corrosión, lo que tiene una gran estabilidad en ambientes extremos.
Anillo de enfoque →
Semicorex suministra el anillo de enfoque recubierto de carburo de silicio que es realmente estable para RTA, RTP o limpieza con productos químicos agresivos.
Mandril de oblea →
Los mandriles de oblea de vacío cerámicos ultraplanos Semicorex están recubiertos con SiC de alta pureza en el proceso de manipulación de oblea.
Semicorex también dispone de productos cerámicos en Alúmina (Al2O3), Nitruro de Silicio (Si3N4), Nitruro de Aluminio (AIN), Zirconia (ZrO2), Cerámica Compuesta, etc.
La funda Si3N4 de Semicorex es un material versátil y de alto rendimiento que ofrece una combinación única de baja densidad, dureza superior, excelente resistencia al desgaste y estabilidad térmica y química excepcional.**
Leer másEnviar ConsultaLa función principal del portabrocas de vacío de cerámica porosa Semicorex radica en su capacidad de proporcionar una permeabilidad uniforme al aire y al agua, una característica que garantiza la distribución uniforme de la tensión y una adhesión robusta de las obleas de silicio. Esta característica es crucial durante el proceso de molienda, ya que evita que la oblea se deslice, manteniendo así la integridad de la operación.**
Leer másEnviar ConsultaEl tubo de alúmina Semicorex es un componente fundamental en una variedad de aplicaciones industriales, reconocido por su capacidad para soportar ambientes hostiles y altas temperaturas.**
Leer másEnviar ConsultaEl disco cerámico PBN de Semicorex se sintetiza mediante un intrincado proceso de deposición química de vapor (CVD), utilizando tricloruro de boro (BCl3) y amoníaco (NH3) a temperaturas elevadas y bajas presiones. Este método de síntesis da como resultado un material de pureza e integridad estructural excepcionales, lo que lo hace indispensable para una variedad de aplicaciones dentro de la industria de los semiconductores.**
Leer másEnviar ConsultaSemicorex ZrO2 Crucible está elaborado a partir de cerámica de circonio estabilizada, presentando una composición estándar de 94,7% de dióxido de circonio (ZrO2) y 5,2% de óxido de itrio (Y2O3) en porcentaje en peso, o alternativamente, 97% de ZrO2 y 3% de Y2O3 en porcentaje molar. Esta formulación precisa dota al crisol ZrO2 de un conjunto de características ventajosas que satisfacen específicamente las demandas de los procesos industriales de alto rendimiento.**
Leer másEnviar ConsultaLa cuchilla de corte Semicorex Al2O3 ha sido diseñada meticulosamente para satisfacer las rigurosas demandas de los procesos de corte en un espectro de industrias, incluidas, entre otras, películas y láminas, aplicaciones médicas y el complejo ensamblaje de componentes electrónicos.**
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